Salutan Silikon Karbida

Pin Lift Wafer AMAT 0200-03201 ini daripada VeTek bermula dengan grafit ketulenan tinggi, kemudian kami menambah salutan SiC CVD padat di atas. Ia dibuat untuk sistem epitaksi 300mm dan reaktor EPI Bahan Gunaan. Mengapa grafit dan SiC? Grafit mengendalikan haba dengan sangat baik. Lapisan SiC mengambil gas menghakis dan tidak cepat haus. Reka bentuk dinding nipis? Itu untuk mengangkat dan meletakkan wafer yang lebih bersih, zarah yang lebih sedikit dan bahagian hayat yang lebih lama di bawah suhu tinggi. Kami juga membuat bahagian grafit bersalut SiC yang serupa untuk sistem ASM, Aixtron dan LPE. Mengharapkan pertanyaan anda.

Vetek Semiconductor membuat pembawa wafer untuk sistem VEECO MOCVD, dibina khusus untuk kerja epitaksi LED seperti LED GaN, LED biru-hijau dan pertumbuhan LED UV mendalam. Pembawa ini bermula dengan grafit ketulenan tinggi dan mendapat salutan silikon karbida (SiC) CVD yang padat. Gabungan itu tahan dengan baik di bawah suhu tinggi yang anda lihat dalam MOCVD – kestabilan haba yang baik, rintangan kakisan dan salutan tahan lama.

Halfmoon ialah komponen grafit yang digunakan di dalam reaktor LPE SiC, terutamanya dipasang di sekitar zon panas ruang. Walaupun ia tidak secara langsung menghubungi wafer, ia masih memainkan peranan dalam kestabilan aliran gas dan operasi reaktor semasa pertumbuhan epitaxial. Untuk mengendalikan suhu tinggi dan keadaan proses reaktif, komponen biasanya dilindungi dengan salutan CVD SiC, manakala salutan TaC juga tersedia untuk beberapa aplikasi. VETEK juga membekalkan penebat rasa grafit dan bahagian grafit bersalut lain untuk sistem epitaksi SiC.

Cincin atas epi SiC 8 inci ialah bahagian perkakasan untuk reaktor semikonduktor. Ia berfungsi di dalam sistem epitaksi Si/SiC dan MOCVD/CVD. Cincin ini menstabilkan haba di dalam ruang. Ia juga mengawal aliran gas. Bahannya adalah CVD Silicon Carbide ketulenan tinggi. Ia tidak mempunyai masalah keluar gas grafit. Ia juga mengurangkan pencemaran zarah semasa pengeluaran. Kami mengalu-alukan pertanyaan anda.

VETEK MOCVD SiC Coated Susceptor ialah penyelesaian pembawa kejuruteraan ketepatan yang dibangunkan khusus untuk pertumbuhan epitaxial semikonduktor LED dan kompaun. Ia menunjukkan keseragaman terma yang luar biasa dan lengai kimia dalam persekitaran MOCVD yang kompleks. Dengan memanfaatkan proses pemendapan CVD yang ketat VETEK, kami komited untuk meningkatkan konsistensi pertumbuhan wafer dan memanjangkan hayat perkhidmatan komponen teras, memberikan jaminan prestasi yang stabil dan boleh dipercayai untuk setiap kelompok pengeluaran semikonduktor anda.

Cincin Fokus Silikon Karbida Pepejal (SiC) Veteksemicon ialah komponen boleh guna kritikal yang digunakan dalam epitaksi semikonduktor termaju dan proses etsa plasma, di mana kawalan tepat pengedaran plasma, keseragaman terma dan kesan pinggir wafer adalah penting. Dihasilkan daripada karbida silikon pepejal ketulenan tinggi, cincin pemfokus ini mempamerkan rintangan hakisan plasma yang luar biasa, kestabilan suhu tinggi dan lengai kimia, membolehkan prestasi yang boleh dipercayai dalam keadaan proses yang agresif. Kami menantikan pertanyaan anda.