Pembekal Perkhidmatan Sokongan China, Pengilang dan Kilang

Perkhidmatan Sokongan

Support Service is VeTek’s one-stop technical service system for customers, covering material purification and characterization, precision machining, thermal field design and modification, professional cleaning of CVD SiC-coated graphite parts, and equipment solutions such as large-size silicon carbide crystal growth furnaces. This category addresses core customer pain points in material purity control, machining accuracy of complex parts, thermal field uniformity optimization, high maintenance costs of coated components, and process stability of SiC crystal growth.

Service Offerings

Service Area	Description
Material Purification & Mapping	Multi-step purification and comprehensive electrical / composition / purity / structure testing and analysis to ensure high-quality semiconductor materials.
Precision Machining	Micrometer-level precision machining of graphite, silicon carbide and other semiconductor products with high surface quality.
Thermal Field Design & Modification	Design and supply for Czochralski, casting, GaAs, ZnSe, sapphire, SiC systems; thermal simulation and optimization under high-temperature conditions.
CVD SiC Coated Parts Cleaning	Specialized cleaning for Aixtron/Veeco MOCVD susceptors and graphite parts (GaN/AlN/AlGaN epi). Zero coating thickness loss, zero metal residue.
Crystal Growth Equipment	Large-sized resistance heating SiC crystal growth furnaces supporting stable 6–12 inch crystal growth with precise process control.

Through these services, customers receive full-chain support from materials to equipment, significantly reducing process risk and operating costs.

Wafer Aluminium Nitrida (AlN).

VeTek Semiconductor membekalkan wafer dan substrat kristal tunggal Aluminium Nitride (AlN) berkualiti tinggi untuk peranti semikonduktor celah jalur ultra lebar generasi seterusnya. Dengan jurang jalur ultra lebar kira-kira 6.2 eV, kekonduksian terma yang luar biasa, penebat elektrik yang luar biasa, dan padanan kekisi dan pengembangan terma yang sangat baik dengan GaN, wafer AlN sesuai untuk peranti RF berkuasa tinggi, elektronik kuasa voltan tinggi dan optoelektronik ultraungu (DUV) dalam.

Perkhidmatan Pembersihan Bahagian Grafit Salutan CVD SiC

Perkhidmatan Pembersihan Profesional VETEK untuk Bahagian Grafit Bersalut SiC CVD ialah perkhidmatan teknikal khusus yang direka untuk susceptor peralatan Aixtron / Veeco MOCVD dan komponen grafit yang digunakan dalam proses epitaxial GaN / AlN / AlGaN. Proses pembersihan proprietari kami secara menyeluruh menghapuskan kesan ingatan permukaan, memulihkan aliran gas yang stabil dalam reaktor, dan melindungi dengan ketat salutan SiC CVD 100 µm dengan kehilangan ketebalan sifar mutlak dan sisa logam sifar.

Wafer Piezoelektrik PZT (PZT pada Si/SOI)

Memandangkan permintaan untuk transduser MEMS berkepekaan tinggi dan berkuasa rendah berkembang dengan pengembangan komunikasi 5G, peranti perubatan ketepatan dan boleh pakai pintar, wafer Si/SOI PZT kami menyediakan penyelesaian bahan kritikal. Dengan menggunakan proses pemendapan filem nipis termaju seperti Sol-gel atau sputtering, kami mencapai konsistensi yang luar biasa dan prestasi piezoelektrik yang unggul pada substrat silikon. Wafer ini berfungsi sebagai teras asas untuk penukaran tenaga elektromekanikal.

Rintangan Rintangan Berdua Sic Sic Crystal Growth Relau

Pertumbuhan kristal karbida silikon adalah proses teras dalam pembuatan peranti semikonduktor berprestasi tinggi. Kestabilan, ketepatan, dan keserasian peralatan pertumbuhan kristal secara langsung menentukan kualiti dan hasil jongkong karbida silikon. Berdasarkan ciri-ciri teknologi pengangkutan wap fizikal (PVT), Veteksemi telah membangunkan relau pemanasan rintangan untuk pertumbuhan kristal karbida silikon, yang membolehkan pertumbuhan stabil 6-inci, 8 inci, dan kristal karbida silikon 12-inci dengan keserasian dengan sistem bahan konduktif, semi-insulat, dan N-Type. Melalui kawalan tepat suhu, tekanan, dan kuasa, ia secara berkesan mengurangkan kecacatan kristal seperti EPD (ketumpatan pit ETCH) dan BPD (dislokasi pesawat basal), sambil memaparkan penggunaan tenaga yang rendah dan reka bentuk padat untuk memenuhi standard pengeluaran besar-besaran industri.

CMP menggilap buburan

Slurry penggilap CMP (buburan penggilap mekanikal kimia) adalah bahan berprestasi tinggi yang digunakan dalam pembuatan semikonduktor dan pemprosesan bahan ketepatan. Fungsi terasnya adalah untuk mencapai kebosanan halus dan penggilap permukaan bahan di bawah kesan sinergistik kakisan kimia dan pengisaran mekanikal untuk memenuhi keperluan kualiti dan permukaan permukaan di peringkat nano. Nantikan perundingan lanjut anda.

Cvd sic salutan dummy wafer

Sebagai pengeluar dan pembekal Wafer SIC yang terkemuka, Vetek Semiconductor CVD SIC Coating Dumfy Wafer adalah alat khusus dalam pembuatan semikonduktor, terutamanya digunakan untuk tujuan ujian wafer silikon dan proses ujian wafer. Pertanyaan lanjut anda dialu -alukan.

Kod QR

Tentang Kami

Produk

Hubungi Kami

telefon
+86-18069220752
+86-15988690905
Faks
+86-579-87223657
E-mel
anny@veteksemi.com
Alamat
Jalan Wangda, Jalan Ziyang, Kaunti Wuyi, Bandar Jinhua, Wilayah Zhejiang, China

Menu Web

Carian Produk

Bahasa

Menu Keluar

Perkhidmatan Sokongan

Service Offerings

Wafer Aluminium Nitrida (AlN).

Perkhidmatan Pembersihan Bahagian Grafit Salutan CVD SiC

Wafer Piezoelektrik PZT (PZT pada Si/SOI)

Rintangan Rintangan Berdua Sic Sic Crystal Growth Relau

CMP menggilap buburan

Cvd sic salutan dummy wafer

Hubungi Kami

Kod QR

Tentang Kami

Produk

Hubungi Kami

telefon

Faks

E-mel

Alamat