wafer

Substrat Waferialah wafer yang diperbuat daripada bahan kristal tunggal semikonduktor. Substrat boleh terus memasuki proses pembuatan wafer untuk menghasilkan peranti semikonduktor, atau ia boleh diproses melalui proses epitaxial untuk menghasilkan wafer epitaxial.

Substrat Wafer, sebagai struktur sokongan asas peranti semikonduktor, secara langsung mempengaruhi prestasi dan kestabilan peranti. Sebagai "asas" untuk pembuatan peranti semikonduktor, satu siri proses pembuatan seperti pertumbuhan filem nipis dan litografi perlu dijalankan pada substrat.

Ringkasan jenis substrat:

 ●Wafer silikon kristal tunggal: pada masa ini bahan substrat yang paling biasa, digunakan secara meluas dalam pembuatan litar bersepadu (IC), mikropemproses, kenangan, peranti MEMS, peranti kuasa, dll.;

 ●substrat SOI: digunakan untuk litar bersepadu berprestasi tinggi, berkuasa rendah, seperti litar analog dan digital frekuensi tinggi, peranti RF dan cip pengurusan kuasa;

 ●Substrat semikonduktor kompaun: Substrat galium arsenide (GaAs): peranti komunikasi gelombang mikro dan milimeter, dsb. Substrat galium nitrida (GaN): digunakan untuk penguat kuasa RF, HEMT, dsb.Substrat silikon karbida (SiC): digunakan untuk kenderaan elektrik, penukar kuasa dan peranti kuasa lain Substrat Indium fosfida (InP): digunakan untuk laser, pengesan foto, dsb.;

 ●Substrat nilam: digunakan untuk pembuatan LED, RFIC (litar bersepadu frekuensi radio), dll.;

Vetek Semiconductor ialah pembekal substrat SiC dan substrat SOI profesional di China. kamiSubstrat SiC jenis separa penebat 4HdanSubstrat SiC Jenis Semi Penebat 4Hdigunakan secara meluas dalam komponen utama peralatan pembuatan semikonduktor. 

Vetek Semiconductor komited untuk menyediakan produk Substrat Wafer termaju dan boleh disesuaikan serta penyelesaian teknikal pelbagai spesifikasi untuk industri semikonduktor. Kami amat berharap untuk menjadi pembekal anda di China.