Substrat waferadalah wafer yang diperbuat daripada bahan kristal tunggal semikonduktor. Substrat boleh memasuki proses pembuatan wafer untuk menghasilkan peranti semikonduktor, atau ia boleh diproses oleh proses epitaxial untuk menghasilkan wafer epitaxial.
Substrat wafer, sebagai struktur sokongan asas peranti semikonduktor, secara langsung mempengaruhi prestasi dan kestabilan peranti. Sebagai "asas" untuk pembuatan peranti semikonduktor, satu siri proses pembuatan seperti pertumbuhan filem nipis dan litografi perlu dijalankan pada substrat.
Ringkasan jenis substrat:
●Wafer silikon kristal tunggal: Pada masa ini bahan substrat yang paling biasa, digunakan secara meluas dalam pembuatan litar bersepadu (ICS), mikropemproses, kenangan, peranti MEMS, peranti kuasa, dan sebagainya;
●Substrat SOI: Digunakan untuk litar bersepadu yang berprestasi tinggi, kuasa rendah, seperti litar analog dan digital frekuensi tinggi, peranti RF dan cip pengurusan kuasa;
●Substrat semikonduktor kompaun: Gallium arsenide substrat (GaAs): Peranti komunikasi gelombang mikro dan milimeter, dan lain -lain.Substrat karbida silikon (sic): digunakan untuk kenderaan elektrik, penukar kuasa dan peranti kuasa lain indium fosfida (INP): digunakan untuk laser, photodetectors, dan sebagainya;
●Substrat nilam: digunakan untuk pembuatan LED, RFIC (litar bersepadu frekuensi radio), dan sebagainya;
Vetek Semiconductor adalah substrat SIC profesional dan pembekal substrat SOI di China. KamiSubstrat jenis SIC separuh penebat 4Hdan4h separuh penebat jenis substrat SICdigunakan secara meluas dalam komponen utama peralatan pembuatan semikonduktor.
Vetek Semiconductor komited untuk menyediakan produk substrat wafer yang canggih dan disesuaikan dan penyelesaian teknikal pelbagai spesifikasi untuk industri semikonduktor. Kami sangat berharap dapat menjadi pembekal anda di China.
