Teknologi & penyelesaian

Kajian Kes

Teknologi Laser Berpandukan Air: Pemesinan Lubang Mikro Ketepatan untuk Substrat SiC
01

Teknologi Laser Berpandukan Air: Pemesinan Lubang Mikro Ketepatan untuk Substrat SiC

Temui cara teknologi laser berpandukan air VeTek memberikan lubang tembus Φ0.15mm seragam dalam substrat SiC 2mm tanpa tirus, HAZ minimum dan hasil tinggi untuk aplikasi semikonduktor.
Lihat Lagi
Penyelesaian Pin Pengangkat Berongga VETEK-AMAT: Substrat Grafit Ketulenan Tinggi dengan Salutan SiC CVD
02

Penyelesaian Pin Pengangkat Berongga VETEK-AMAT: Substrat Grafit Ketulenan Tinggi dengan Salutan SiC CVD

Isu teknikal yang paling mencabar untuk pin lif berongga peralatan semikonduktor bukanlah salutan permukaan luar, tetapi mencapai salutan CVD yang stabil dan seragam pada dinding dalam struktur berongga. Daripada kawalan keseragaman salutan dinding dalaman kepada jaminan kebersihan lubang dalaman, setiap langkah proses secara langsung mempengaruhi hasil wafer. Artikel ini menganalisis cabaran teras salutan dinding dalam pin lif berongga dan laluan teknikal utama.
Lihat Lagi
X
Kami menggunakan kuki untuk menawarkan anda pengalaman menyemak imbas yang lebih baik, menganalisis trafik tapak dan memperibadikan kandungan. Dengan menggunakan tapak ini, anda bersetuju dengan penggunaan kuki kami. Dasar Privasi
TolakTerima