Silikon Nitrida

VeTek Semiconductor memfokuskan pada pembuatan Silicon Nitride dan mempunyai pasukan penyelidikan dan pembangunan yang terdiri daripada pakar kanan dan bakat teknikal terkemuka. Seramik silikon nitrida mempunyai kelebihan kekerasan, rintangan haba, rintangan haus dan rintangan kakisan bahan seramik am, dan mempunyai kelebihan rintangan kejutan haba yang baik, rintangan rayapan suhu tinggi, pelinciran diri yang baik, dan kestabilan kimia yang baik, dan secara meluas. digunakan dalam tenaga baharu, industri kimia, aeroangkasa dan bidang semikonduktor.

Bahan Silikon Nitrida Semikonduktor VeTek mempunyai kelebihan berikut:

1. Kestabilan kimia yang sangat baik

Seramik silikon nitrida mempunyai kestabilan kimia yang sangat baik dan boleh menahan pelbagai asid kuat, alkali dan gas menghakis. Dalam proses pembuatan semikonduktor selalunya perlu berurusan dengan bahan kimia yang menghakis, seramik silikon nitrida boleh memberikan jaminan prestasi stabil jangka panjang.

2. Sifat mekanikal yang sangat baik

Seramik silikon nitrida mempunyai kekerasan yang tinggi, kekuatan mampatan yang sangat baik dan rintangan haus, mampu menahan tekanan mekanikal dan haus permukaan, tidak mudah ubah bentuk atau pecah. Sifat mekanikal ini menjadikannya sangat sesuai sebagai bahan untuk bahagian struktur dan proses dalam peralatan semikonduktor.

3. Kestabilan suhu tinggi

Seramik silikon nitrida boleh mengekalkan kestabilan dalam persekitaran suhu tinggi, tidak mudah lembut atau cair, dan boleh menahan pemprosesan dan pengendalian suhu tinggi dalam proses pembuatan semikonduktor. Ini membolehkan ia digunakan dalam pembuatan komponen utama peralatan proses suhu tinggi, seperti penggenggam, komponen ruang tindak balas dan sebagainya.

4. Ciri-ciri penebat yang sangat baik

Sifat penebat adalah kritikal dalam pembuatan peranti semikonduktor. Seramik silikon nitrida mempunyai sifat penebat yang baik, yang boleh mengasingkan dan melindungi komponen litar dengan berkesan daripada kebocoran semasa atau gangguan elektromagnet, membantu meningkatkan kestabilan dan kebolehpercayaan peranti.

5. Kekonduksian terma dan kekonduksian terma

Seramik silikon nitrida mempunyai kekonduksian terma yang tinggi, boleh mengalirkan dan menghilangkan haba yang dihasilkan oleh peranti dengan berkesan, membantu mengekalkan kestabilan suhu peranti dalam proses pengendalian. Ini penting untuk operasi berprestasi tinggi peranti semikonduktor.

Aplikasi bahan Silicon Nitride VeTek Semiconductor dalam industri solar dan semikonduktor terutamanya termasuk:

1. chuck elektrostatik dan komponen kebuk etsa

Seramik silikon nitrida sering digunakan sebagai bahan untuk chuck elektrostatik dan komponen kebuk etsa dalam pembuatan semikonduktor kerana kestabilan kimia yang sangat baik dan rintangan suhu tinggi. Chuck elektrostatik digunakan untuk membaiki dan menstabilkan wafer atau substrat, manakala komponen kebuk etsa digunakan untuk menahan gas menghakis dan persekitaran suhu tinggi.

2. plat pengedaran gas dan pemantul

Seramik silikon nitrida juga digunakan dalam pembuatan peralatan semikonduktor dalam plat pengedaran gas dan pemantul. Plat pengedaran gas digunakan untuk mengedarkan gas reaktif atau pelindung secara seragam ke dalam ruang tindak balas, manakala pemantul digunakan untuk mengoptimumkan pengedaran dan pantulan cahaya dalam ruang tindak balas untuk meningkatkan kecekapan dan keseragaman tindak balas.

3. Pemegang dan komponen haba

Seramik silikon nitrida sering digunakan sebagai pemegang dan komponen pengurusan haba dalam peralatan pembuatan semikonduktor. Komponen ini perlu mempunyai kekuatan mekanikal yang baik, rintangan haus dan kekonduksian terma untuk memastikan operasi peralatan yang stabil dan ketepatan pemprosesan peranti.

4. Pad Penggilap Mekanikal Kimia (CMP).

Seramik Silicon Nitride digunakan secara meluas sebagai bahan pad dalam proses Chemical Mechanical Polishing (CMP). Ia mempunyai kerataan dan rintangan haus yang sangat baik, dan boleh memberikan sokongan yang stabil semasa proses penggilapan untuk memastikan kerataan dan ketepatan permukaan wafer semikonduktor.