VETEK Pangkalan Pengilangan Semikonduktor Baharu Memasuki Fasa Pembinaan Bilik Bersih

Zhejiang, China – Jun 2026— Pembinaan pangkalan pembuatan baharu VETEK telah mencapai satu lagi peringkat penting. Berikutan penyiapan struktur bangunan utama, kerja kini telah beralih kepada pemasangan kemudahan bilik bersih gred semikonduktor.

Di tapak projek, hiasan dalaman, sistem pengudaraan, peralatan penapisan udara dan saluran paip utiliti sedang dipasang secara serentak. Beberapa kawasan telah pun memasuki peringkat penyediaan peralatan.

Kerja Bilik Bersih Berkembang Seperti Dirancang

Kemudahan baru ini direka untuk pengeluaran bahan semikonduktor dan produk salutan. Berbanding dengan kilang semasa, tapak baharu akan menyediakan lebih banyak ruang pengeluaran dan pengurusan aliran proses yang lebih baik.

Kawasan bilik bersih akan digunakan untuk pengeluaran salutan, pemesinan ketepatan, pembersihan, pemeriksaan dan pembungkusan. Kawasan khusus juga sedang disediakan untuk produk dengan keperluan ketulenan yang lebih tinggi.

Pasukan pembinaan sedang menjalankan pemasangan siling, rawatan lantai dan penyepaduan sistem sokongan. Kerja harian sedang berjalan mengikut garis masa projek.

Pemindahan Peralatan Dijangka Pada Akhir Tahun

Persediaan untuk pemindahan peralatan telah pun bermula.

Peralatan pengeluaran sedia ada akan dipindahkan ke kemudahan baharu secara berperingkat selepas pemasangan bilik bersih selesai. Pelan penempatan semula juga termasuk penentukuran peralatan, pengeluaran percubaan dan pengesahan proses.

Berdasarkan kemajuan pembinaan semasa, penempatan semula peralatan pengeluaran utama dijangka siap sebelum akhir tahun ini.

Selepas langkah itu, VETEK akan meneruskan pengeluaran produk termasukSalutan CVD SiC, salutan TaC, salutan PyC, Komponen SiC pepejaldanbahan grafit ketulenan tinggiuntuk aplikasi semikonduktor.

Bagi pasukan VETEK, kilang baharu itu bukan sekadar bangunan yang lebih besar. Ia adalah platform pengeluaran yang direka untuk fasa seterusnya pembuatan bahan semikonduktor, dengan ruang yang lebih besar untuk pembangunan proses, pengembangan peralatan dan pertumbuhan kapasiti masa hadapan.