Pembawa Wafer SiC Mendatar

Tawaran semikonduktorPembawa wafer sic mendatar/Boat mempunyai takat lebur yang sangat tinggi (kira-kira 2700°C), yang membolehkanPembawa wafer sic mendatar/Boat berfungsi dengan stabil dalam persekitaran suhu tinggi tanpa ubah bentuk atau degradasi. Ciri ini amat penting dalam proses pembuatan semikonduktor, terutamanya dalam proses seperti penyepuhlindapan suhu tinggi atau pemendapan wap kimia (CVD).

ThePembawa Wafer SiC Mendatar/Bot khusus memainkan peranan berikut dalam proses membawa pembawa wafer:

Pembawa dan sokongan wafer silikon: Bot Wafer SiC Horizontal digunakan terutamanya untuk membawa dan menyokong wafer silikon semasa pembuatan semikonduktor. Ia boleh menyusun beberapa wafer silikon bersama-sama dengan kukuh untuk memastikan ia kekal dalam kedudukan yang baik dan kestabilan sepanjang keseluruhan proses pemprosesan.

Pemanasan dan penyejukan seragam: Oleh kerana kekonduksian haba yang tinggi SIC, bot wafer dapat mengedarkan haba secara sama rata ke semua wafer silikon. Ini membantu mencapai pemanasan seragam atau penyejukan wafer silikon semasa pemprosesan suhu tinggi, memastikan konsistensi dan kebolehpercayaan proses pemprosesan.

Mencegah pencemaran: Kestabilan kimia SIC membolehkannya berfungsi dengan baik dalam persekitaran gas suhu tinggi dan menghakis, dengan itu mengurangkan pendedahan wafer silikon kepada bahan pencemar atau reaktan yang mungkin, memastikan kesucian dan kualiti wafer silikon.

Malah, Bot Wafer SiC Horizontal boleh memainkan peranan di atas kerana ciri-ciri produknya yang unik:

Kestabilan kimia yang sangat baik: Bahan SiC mempunyai ketahanan kakisan yang sangat baik terhadap pelbagai media kimia. Dalam proses memproses gas atau cecair yang menghakis, SiC Wafer Boat boleh menahan kakisan kimia secara berkesan dan melindungi wafer silikon daripada pencemaran atau kerosakan.

Kekonduksian terma yang tinggi: Kekonduksian terma yang tinggi SIC membantu mengedarkan haba secara merata dalam proses pembawa dan mengurangkan pengumpulan haba. Ini dapat meningkatkan ketepatan kawalan suhu semasa pemprosesan ketepatan dan memastikan pemanasan seragam atau penyejukan wafer silikon.

Pekali pengembangan haba yang rendah: Pekali pengembangan haba yang rendah bahan SIC bermakna perubahan dimensi bot wafer SIC sangat kecil semasa perubahan suhu. Ini membantu mengekalkan kestabilan dimensi semasa pemprosesan suhu tinggi dan menghalang ubah bentuk atau perpindahan kedudukan wafer silikon yang disebabkan oleh pengembangan haba.

Sifat fizikal asas Pembawa Wafer SiC Mendatar:

Kedai Pengeluaran Semikonduktor VeTek:

Gambaran keseluruhan rantaian industri epitaxy cip semikonduktor: