Menu Web

Carian Produk

Bahasa

Produk
CMP menggilap buburan
  • CMP menggilap buburanCMP menggilap buburan

CMP menggilap buburan

Slurry penggilap CMP (buburan penggilap mekanikal kimia) adalah bahan berprestasi tinggi yang digunakan dalam pembuatan semikonduktor dan pemprosesan bahan ketepatan. Fungsi terasnya adalah untuk mencapai kebosanan halus dan penggilap permukaan bahan di bawah kesan sinergistik kakisan kimia dan pengisaran mekanikal untuk memenuhi keperluan kualiti dan permukaan permukaan di peringkat nano. Nantikan perundingan lanjut anda.
Hantar Pertanyaan
Penerangan Produk

Slurry penggilap CMP Veteksemicon digunakan terutamanya sebagai penggilap kasar dalam buburan penggilap mekanikal kimia CMP untuk planarizing bahan semikonduktor. Ia mempunyai kelebihan berikut:

● Ijazah persatuan diameter dan zarah zarah boleh dikawal secara bebas;
● Zarah -zarahnya monodispersed dan pengedaran saiz zarah adalah seragam;
● Sistem penyebaran stabil;
● Skala pengeluaran besar -besaran adalah besar dan perbezaan antara kelompok adalah kecil;
● Ia tidak mudah untuk memadamkan dan menyelesaikannya.


Petunjuk prestasi untuk produk siri kesucian ultra tinggi

Parameter
 Unit
 Petunjuk prestasi untuk produk siri kesucian ultra tinggi
Uskup
 Uskup2
 Uskup3
 Uskup4
 Uskup-5
 Uskup6
 Uskup7
Saiz zarah silika purata
 nm
 35 ± 5
 45 ± 5
 65 ± 5
 75 ± 5
 85 ± 5
 100 ± 5
 120 ± 5
Pengagihan saiz nanopartikel (PDI)
 1 <0.15
 <0.15
 <0.15
 <0.15
 <0.15
 <0.15
 <0.15
Penyelesaian pH
 1 7.2-7.4
 7.2-7.4
 7.2-7.4
 7.2-7.4
 7.2-7.4
 7.2-7.4
 7.2-7.4
Kandungan pepejal
 % 20.5 ± 0.5
 20.5 ± 0.5
 20.5 ± 0.5
 20.5 ± 0.5
 20.5 ± 0.5
 20.5 ± 0.5
 20.5 ± 0.5
Penampilan
 -
 Biru muda
 Biru
 Putih
 Off-white
 Off-white
 Off-white
 Off-white
Morfologi zarah x
 X: s- pherical ； b- melengkung ； p- berbentuk kacang ； t-bulbous ； c- rantaian seperti (keadaan agregat)
Menstabilkan ion
 Amina organik / bukan organik
Komposisi bahan mentah y
 Dan: m-tmos ； e-you ； me-tamos+teos ； em-ezos+tmos
Kandungan kekotoran logam
 ≤ 300ppb


Aplikasi produk buburan CMP menggilap:


● Bahan ILD litar bersepadu cmp

● Bahan Poly-Si Litar Bersepadu CMP

● Semikonduktor Single Silicon Wafer Bahan CMP

● Bahan silikon karbida silikon semikonduktor cmp

● Bahan STI litar bersepadu cmp

● Bahan lapisan logam dan logam litar bersepadu cmp


Teg Panas: CMP menggilap buburan
Kategori Berkaitan
Hantar Pertanyaan
Maklumat Hubungan
Untuk pertanyaan mengenai Salutan Silikon Karbida, Salutan Tantalum Karbida, Grafit Khas atau senarai harga, sila tinggalkan e-mel anda kepada kami dan kami akan berhubung dalam masa 24 jam.
Produk Berkaitan
Max fasa nanopowder
Max fasa nanopowder Lihat Lagi >>
Teknologi semburan haba semikonduktor
Teknologi semburan haba semikonduktor Lihat Lagi >>
Wafer mengendalikan lengan robot
Wafer mengendalikan lengan robot Lihat Lagi >>
Teknologi penyemburan haba MLCC kapasitor
Teknologi penyemburan haba MLCC kapasitor Lihat Lagi >>
Pemendapan wap fizikal
Pemendapan wap fizikal Lihat Lagi >>
Cadangan Berita
Apakah perbezaan antara salutan karbida silikon dan Tantalum karbida?
Apakah perbezaan antara salutan karbida silikon dan Tantalum karbida?Lihat Lagi >>
Apakah perbezaan antara Epitaxy dan ALD?
Apakah perbezaan antara Epitaxy dan ALD?Lihat Lagi >>
Penggunaan karbida silikon pepejal
Penggunaan karbida silikon pepejalLihat Lagi >>
Apakah grafit berliang kejam tinggi?
Apakah grafit berliang kejam tinggi?Lihat Lagi >>
Pelanggan Selamat Datang untuk Mengunjungi Salutan SIC/ TAC dan Kilang Proses Epitaxy Veteksicon's
Pelanggan Selamat Datang untuk Mengunjungi Salutan SIC/ TAC dan Kilang Proses Epitaxy Veteksicon'sLihat Lagi >>
Resipi pemendapan lapisan atom ALD
Resipi pemendapan lapisan atom ALDLihat Lagi >>
X
We use cookies to offer you a better browsing experience, analyze site traffic and personalize content. By using this site, you agree to our use of cookies. Privacy Policy
Reject Accept