Grafit ultra murni lebih rendah separuh

Vetek Semiconductor adalah pengeluar profesional yang didedikasikan untuk menyediakan separuh murni grafit yang lebih rendah. Produk kami Ultra Pure Graphite Lower Halfmoon direka khusus untuk ruang epitaxial SIC dan menawarkan prestasi dan keserasian yang unggul dengan pelbagai model peralatan.

Ciri -ciri:

Sambungan: Vetek Semikonduktor Ultra Pure Graphite Lower Halfmoon direka untuk menyambung dengan tiub kuarza, memudahkan aliran gas untuk memacu putaran asas pembawa.

Kawalan Suhu: Produk ini membolehkan kawalan suhu, memastikan keadaan optimum dalam ruang tindak balas.

Reka bentuk bukan hubungan: Dipasang di dalam ruang tindak balas, grafit Ultra Pure kami yang lebih rendah separuh tidak langsung menghubungi wafer, memastikan integriti proses.

Senario Aplikasi:

Halfmoon grafit Ultra Pure kami berfungsi sebagai komponen kritikal dalam ruang epitaxial SIC, di mana ia membantu mengekalkan kandungan kekotoran di bawah 5 ppm. Dengan memantau parameter seperti ketebalan dan keseragaman kepekatan doping, kami memastikan lapisan epitaxial berkualiti tinggi.

Keserasian:

Vetek Semiconductor's Ultra Pure Graphite Lower Halfmoon serasi dengan pelbagai model peralatan, termasuk LPE, Naura, JSG, CETC, NASO Tech, dan sebagainya.

Kami menjemput anda untuk melawat kilang kami di China untuk meneroka grafit Ultra Pure yang berkualiti tinggi yang lebih rendah secara langsung.

Sifat Fizikal Asas Salutan CVD SIC:

Bandingkan Kedai Pengeluaran Semikonduktor:

Gambaran keseluruhan rantaian industri epitaxy cip semikonduktor: