Pemanas MOCVD VEECO

Pemanas Veeco MOCVD Veteksemi diperbuat daripada bahan grafit kemelut tinggi dengan kandungan kekotoran yang dikawal ketat di bawah 5 ppm, dan disalut dengan silikon silikon kesucian ultra tinggi (sic) dengan kesucian lebih daripada 99.99995% melalui aproses pemendapan wap kimia (CVD). Gabungan bahan ini memberikan pemanas satu siri sifat utama yang memastikan prestasi cemerlangnya dipemendapan wap kimia organik logam (MOCVD)proses.

Salah satu ciri cemerlang pemanas MOCVD Veeco adalah kesucian kimia yang luar biasa. Inti grafit kemelut tinggi sangat mengurangkan potensi pengenalan bahan cemar dalam proses suhu tinggi, memastikan proses pemendapan filem ultra bersih. TheSalutan SiC CVDmenyediakan perlindungan tambahan untuk pemanas, membentuk penghalang yang kuat untuk mengelakkan tindak balas kimia yang boleh merosakkan kualiti filem. Ketulenan yang tiada tandingan ini penting untuk mengeluarkan peranti semikonduktor berprestasi tinggi dan boleh dipercayai.

Pada masa yang sama, pemanas mempamerkan kestabilan dan kecekapan terma yang sangat tinggi. SIC mempunyai titik lebur yang tinggi dan kekonduksian terma yang sangat baik, yang membolehkan pemanas mengurus dan menjalankan haba dengan berkesan. Ini memastikan pemanasan seragam merentasi substrat, yang seterusnya membantu mencapai pemendapan filem seragam dan mengurangkan kecacatan yang disebabkan oleh kecerunan terma. Kecekapan terma sedemikian amat penting untuk pembuatan ketepatan.

Pemanas VEECO MOCVD juga cemerlang dalam prestasi elektrik. Teras grafit ketulenan tingginya mempunyai kekonduksian elektrik yang sangat baik, membolehkan pemanas mengendalikan keperluan beban elektrik yang tinggi. Prestasi elektrik yang stabil ini membolehkan pemanas mengekalkan kawalan suhu dan kadar pemendapan yang tepat di bawah keadaan beban tinggi, yang penting untuk memastikan keadaan proses yang konsisten dan meningkatkan kecekapan pembuatan semikonduktor.

Reka bentuk permukaan pemanas telah dioptimumkan dengan teliti untuk mempunyai emissivity substrat yang tinggi, yang meningkatkan kecekapan pemindahan haba radiasi. Keupayaan untuk memanaskan secara merata adalah faktor utama dalam memastikan ketebalan dan ciri -ciri pemendapan filem yang konsisten. Reka bentuk permukaan emissivity yang tinggi juga meningkatkan kecekapan haba keseluruhan pemanas, dengan itu mengurangkan penggunaan tenaga dan menurunkan kos operasi.

Dari segi ketahanan, pemanas Veeco MOCVD Veteksemi mempamerkan rintangan kakisan yang sangat baik, rintangan pengoksidaan dan kekuatan mekanikal. Salutan CVD SIC menyediakan penghalang pepejal kepada gas dan bahan kimia yang menghakis dalam proses MOCVD, dengan itu memanjangkan hayat peralatan dan mengurangkan keperluan penyelenggaraan dan kos penggantian. Rintangan pengoksidaannya memastikan bahawa pemanas tetap stabil pada suhu tinggi tanpa kemerosotan prestasi, memastikan kestabilan jangka panjang.

Selain itu, kekuatan mekanikal yang tinggi bagi pemanas MOCVD VeTeksemi membolehkannya menahan tekanan fizikal yang dijana semasa kitaran haba dan pengendalian substrat. Kekukuhannya mengurangkan risiko kegagalan mekanikal dan memastikan operasi peralatan yang boleh dipercayai di bawah keadaan proses yang keras.

Sebagai pengeluar lanjutan dan pembekal produk pemanas MOCVD Veeco, Veteksemi juga menyediakan pelbagai produk pemanas berkualiti tinggi sepertiPemanas Salutan TaC, pemanas grafit lapisan seramik silikon karbida, Pemanas salutan seramik karbida silikon, dsb. VeTek Semiconductor komited untuk menyediakan teknologi dan penyelesaian produk termaju dan boleh disesuaikan untuk industri semikonduktor. Kami sangat berharap untuk menjadi rakan kongsi jangka panjang anda di China.