Sokongan salutan karbida Tantalum

Fungsi utama semikonduktor vetekSalutan Tantalum Carbide (TAC)Sokongan adalah untuk memperbaikirintangan haba, rintangan haus dan rintangan kakisandaripada substrat dengan melapisi lapisan salutan Tantalum Carbide, untuk meningkatkan ketepatan dan kebolehpercayaan proses dan memperluaskan hayat perkhidmatan komponen. Ia adalah produk salutan berprestasi tinggi yang digunakan dalam bidang pemprosesan semikonduktor.

Vetek Semiconductor's Tantalum Carbide Coating Suppor mempunyai kekerasan Mohs hampir 9 ~ 10, kedua hanya untuk berlian. Ia mempunyai rintangan haus yang sangat kuat dan dengan berkesan dapat menahan haus dan kesan permukaan semasa pemprosesan, dengan itu secara berkesan memperluaskan hayat perkhidmatan komponen peralatan. Digabungkan dengan titik lebur yang tinggi kira -kira 3880 ° C, ia sering digunakan untuk komponen utama salutan peralatan semikonduktor, seperti lapisan permukaan struktur sokongan, peralatan rawatan haba, ruang atau gasket dalam peralatan semikonduktor untuk meningkatkan rintangan haus dan rintangan suhu tinggi.

Kerana titik lebur yang sangat tinggi karbida tantalum kira -kira 3880 ° C, dalam proses pemprosesan semikonduktor sepertiPemendapan Wap Kimia (CVD)danPemendapan Wap Fizikal (PVD), Salutan TAC dengan rintangan suhu tinggi yang kuat dan rintangan kakisan kimia dapat melindungi komponen peralatan dengan berkesan dan mencegah kakisan atau kerosakan kepada substrat dalam persekitaran yang melampau, memberikan perlindungan yang berkesan untuk persekitaran suhu tinggi dalam pembuatan wafer. Ciri ini juga menentukan bahawa sokongan salutan tantalum karbida Vetek semikonduktor sering digunakan dalam proses etsa dan menghakis.

Sokongan salutan karbida Tantalum juga mempunyai fungsi mengurangkan pencemaran zarah. Semasa pemprosesan wafer, haus permukaan biasanya menghasilkan pencemaran zarah, yang mempengaruhi kualiti produk wafer. Ciri-ciri produk ekstrem TAC Coating hampir 9-10 kekerasan Mohs dapat mengurangkan pakaian ini dengan berkesan, dengan itu mengurangkan penjanaan zarah. Digabungkan dengan kekonduksian terma yang sangat baik TAC Coating (kira -kira 21 W/m · k), ia dapat mengekalkan kekonduksian terma yang baik di bawah keadaan suhu tinggi, dengan itu meningkatkan hasil dan konsistensi pembuatan wafer.

Produk salutan utama Vetek Semiconductor termasukPemanas salutan TAC, CVD TAC Coating Crucible, SPOLED PUTIHAN TAC CoatingdanBahagian ganti salutan TAC, dan lain -lain, dan menyokong perkhidmatan produk yang disesuaikan. Vetek Semiconductor komited untuk menyediakan produk dan penyelesaian teknikal yang sangat baik untuk industri semikonduktor. Kami sangat berharap dapat menjadi rakan kongsi jangka panjang anda di China.

Salutan Tantalum Carbide (TAC) pada keratan rentas mikroskopik:

Sifat fizikal asas salutan CVD TAC：