SPOLED PUTIHAN TAC Coating

Vetek Semiconductor TAC Coating Rotation Susceptor adalah komponen utama untuk pengendalian wafer dalam pemprosesan semikonduktor. ItuTac apaKamimempunyai toleransi suhu tinggi yang sangat baik (titik lebur sehingga 3880 ° C), kestabilan kimia dan rintangan kakisan, yang memastikan ketepatan yang tinggi dan berkualiti tinggi dalam pemprosesan wafer.

Salceptor putaran salutan TAC (Tantalum Carbon Coating Rotation Susceptor) adalah komponen peralatan utama yang digunakan dalam pemprosesan semikonduktor. Biasanya dipasang diPemendapan Wap Kimia (CVD)dan peralatan epitaxy rasuk molekul (MBE) untuk menyokong dan memutar wafer untuk memastikan pemendapan bahan seragam dan tindak balas yang cekap. Jenis produk ini dengan ketara meningkatkan hayat perkhidmatan dan prestasi peralatan dalam suhu tinggi dan persekitaran yang menghakis dengan melapisi substrat dengansalutan karbon tantalum (TAC).

Salceptor putaran salutan TAC biasanya terdiri daripada salutan TAC dan grafit atau silikon karbida sebagai bahan substrat. TAC adalah bahan seramik suhu ultra tinggi dengan titik lebur yang sangat tinggi (titik lebur sehingga 3880 ° C), kekerasan (kekerasan Vickers adalah kira-kira 2000 HK) dan rintangan kakisan kimia yang sangat baik. Semikonduktor Vetek boleh secara berkesan dan merata meliputi salutan karbon Tantalum pada bahan substrat melalui teknologi CVD.

Pengecutan putaran biasanya diperbuat daripada kekonduksian terma yang tinggi dan bahan kekuatan tinggi (grafit atauSilicon Carbide), yang boleh memberikan sokongan mekanikal yang baik dan kestabilan terma dalam persekitaran suhu tinggi. Gabungan sempurna kedua -duanya menentukan prestasi sempurna pemussa putaran salutan TAC dalam menyokong dan berputar wafer.

Sokongan putaran TAC Coating menyokong dan memutar wafer dalam proses CVD. Kekerasan Vickers TAC adalah kira -kira 2000 HK, yang membolehkannya untuk menahan geseran berulang bahan dan memainkan peranan sokongan yang baik, dengan itu memastikan bahawa gas reaksi sama rata di atas permukaan wafer dan bahan itu sama rata. Pada masa yang sama, toleransi suhu tinggi dan rintangan kakisan salutan TAC membolehkan ia digunakan untuk masa yang lama dalam suhu tinggi dan atmosfera yang menghakis, yang berkesan mengelakkan pencemaran wafer dan pembawa.

Selain itu, kekonduksian terma TAC ialah 21 W/m · K, yang mempunyai pemindahan haba yang baik. Oleh itu, pemecatan putaran salutan TAC dapat memanaskan wafer secara merata di bawah keadaan suhu tinggi dan memastikan keseragaman proses pemendapan gas melalui gerakan putaran, dengan itu mengekalkan konsistensi dan kualiti tinggi kualitipertumbuhan wafer.

Salutan Tantalum Carbide (TAC) pada keratan rentas mikroskopik：

Sifat fizikal salutan TAC：

Kedai Salceptor Putaran TAC CoKami: