CVD TAC Coating Crucible

Salceptor putaran salutan TAC memainkan peranan penting dalam proses pemendapan suhu tinggi seperti CVD dan MBE, dan merupakan komponen penting untuk pemprosesan wafer dalam pembuatan semikonduktor. Antara mereka,Salutan TACmempunyai rintangan suhu tinggi yang sangat baik, rintangan kakisan dan kestabilan kimia, yang memastikan ketepatan yang tinggi dan berkualiti tinggi semasa pemprosesan wafer.

CVD TAC Coating Crucible biasanya terdiri daripada salutan TAC dangrafitsubstrat. Antaranya, TAC adalah bahan seramik titik lebur yang tinggi dengan titik lebur sehingga 3880 ° C. Ia mempunyai kekerasan yang sangat tinggi (kekerasan Vickers sehingga 2000 HV), rintangan kakisan kimia dan rintangan pengoksidaan yang kuat. Oleh itu, salutan TAC adalah bahan tahan suhu tinggi yang sangat baik dalam teknologi pemprosesan semikonduktor.

Substrat grafit mempunyai kekonduksian terma yang baik (kekonduksian terma adalah kira -kira 21 W/m · k) dan kestabilan mekanikal yang sangat baik. Ciri ini menentukan bahawa grafit menjadi salutan yang idealsubstrat.

CVD TAC Coating Crucible terutamanya digunakan dalam teknologi pemprosesan semikonduktor berikut:

Pembuatan wafer: Vetek semikonduktor CVD TAC Coating Crucible mempunyai rintangan suhu tinggi yang sangat baik (titik lebur sehingga 3880 ° C) dan rintangan kakisan, jadi ia sering digunakan dalam proses pembuatan wafer utama seperti pemendapan wap suhu tinggi (CVD) dan pertumbuhan epitaxial. Digabungkan dengan kestabilan struktur produk yang sangat baik dalam persekitaran suhu ultra tinggi, ia memastikan peralatan itu dapat beroperasi dengan stabil untuk masa yang lama di bawah keadaan yang sangat keras, dengan itu meningkatkan kecekapan pengeluaran dan kualiti wafer.

Proses pertumbuhan epitaxial: Dalam proses epitaxial sepertiPemendapan Wap Kimia (CVD)dan epitaxy rasuk molekul (MBE), CVD TAC Coating Crucible memainkan peranan utama dalam membawa. Lapisan TACnya bukan sahaja dapat mengekalkan kesucian bahan yang tinggi di bawah suhu yang melampau dan suasana yang menghakis, tetapi juga menghalang pencemaran reaktan pada bahan dan kakisan reaktor, memastikan ketepatan proses pengeluaran dan konsistensi produk.

Memandangkan pengeluar dan pemimpin CVD TAC yang terkemuka di China, Vetek Semiconductor dapat menyediakan produk dan perkhidmatan teknikal yang disesuaikan mengikut keperluan peralatan dan proses anda. Kami sangat berharap dapat menjadi rakan kongsi jangka panjang anda di China.

Salutan Tantalum Carbide (TAC) pada keratan rentas mikroskopik：

Sifat fizikal salutan TAC：

Ia semikonduktor CVD TAC Coating Shops Crucible: