Crucible untuk silikon monocrystalline

Dalam kaedah CZ (Czochralski), satu kristal ditanam dengan membawa benih monocrystalline ke dalam sentuhan dengan silikon polikristalin cair. Benih secara beransur -ansur ditarik ke atas ketika diputar perlahan -lahan. Dalam proses ini, sejumlah besar bahagian grafit digunakan, menjadikannya kaedah yang menggunakan kuantiti tertinggi komponen grafit dalam pembuatan semikonduktor silikon.

Gambar yang betul menyediakan perwakilan skematik relau pembuatan tunggal kristal silikon berdasarkan kaedah CZ.

Vetek Semiconductor yang boleh dikendalikan untuk silikon monocrystalline menyediakan persekitaran yang stabil dan terkawal penting untuk pembentukan kristal semikonduktor yang tepat. Mereka memainkan peranan penting dalam mengembangkan jongkong silikon monocrystalline menggunakan teknik canggih seperti proses Czochralski dan kaedah zon terapung, yang penting untuk menghasilkan bahan berkualiti tinggi untuk peranti elektronik.

Direkayasa untuk kestabilan terma tertunggak, rintangan kakisan kimia, dan pengembangan haba yang minimum, crucibles ini memastikan ketahanan dan ketahanan. Mereka direka untuk menahan persekitaran kimia yang keras tanpa menjejaskan integriti struktur atau prestasi, dengan itu memperluaskan jangka hayat yang boleh dilepaskan dan mengekalkan prestasi yang konsisten berbanding penggunaan yang berpanjangan.

Komposisi unik Vetek semikonduktor crucibles untuk silikon monocrystalline membolehkan mereka menahan keadaan yang melampau pemprosesan suhu tinggi. Ini menjamin kestabilan dan kesucian terma yang luar biasa, yang penting untuk pemprosesan semikonduktor. Komposisi ini juga memudahkan pemindahan haba yang cekap, mempromosikan penghabluran seragam dan meminimumkan kecerunan haba dalam cair silikon.

✔ Perlindungan bahan asas: TheCVD SIC CoatingBertindak sebagai lapisan pelindung semasa proses epitaxial, dengan berkesan melindungi bahan asas dari hakisan dan kerosakan yang disebabkan oleh persekitaran luaran. Langkah perlindungan ini sangat memanjangkan hayat perkhidmatan peralatan.

✔ Kekonduksian terma yang sangat baik: Salutan CVD SIC kami mempunyai kekonduksian terma yang luar biasa, dengan cekap memindahkan haba dari bahan asas ke permukaan salutan. Ini meningkatkan kecekapan pengurusan terma semasa epitaxy, memastikan suhu operasi yang optimum untuk peralatan.

✔ Kualiti filem yang lebih baik: Salutan CVD SIC menyediakan permukaan rata dan seragam, mewujudkan asas yang ideal untuk pertumbuhan filem. Ia mengurangkan kecacatan akibat ketidakcocokan kekisi, meningkatkan kristal dan kualiti filem epitaxial, dan akhirnya meningkatkan prestasi dan kebolehpercayaannya.