Chuck Elektrostatik Seramik Aluminium Nitrida (AlN).

1.Kelebihan

• Seramik AlN ketulenan tinggi dengan kekonduksian terma sehingga ~180 W/m·K untuk pemindahan haba yang cekap dan keseragaman suhu

• Penebat elektrik yang kuat dan kerintangan volum tinggi menyokong pengapit yang stabil pada 1–3 kV (voltan lebih tinggi tersedia)

• Bahan lapisan dielektrik tersuai dan susun atur elektrod: Coulomb atau Johnsen–Rahbek (JR); satu atau berbilang zon

• Prestasi pengapit dan penyahkapit pantas, biasanya di bawah 0.1 saat

• Permukaan struktur mikro lesung pipit hingga ~300 μm diameter, mengurangkan kawasan sentuhan serendah ~1%

• Keupayaan kerataan yang tinggi; kerataan global tipikal pada urutan 0.5–3 μm PV untuk platform kelas 300 mm

• Struktur mikro padat dengan penyerapan air hampir sifar dan rintangan kimia yang baik untuk persekitaran proses

2.Aplikasi Biasa

Chuck Elektrostatik Seramik Aluminium Nitrida digunakan dalam langkah-langkah proses yang memerlukan kedua-dua pegangan wafer selamat dan tingkah laku terma terkawal:

• Etch plasma kering (ICP / RIE) dan proses kebuk yang berkaitan

• CVD, PEALD, ALD terma dan peringkat pemendapan filem nipis lain

• Modul proses penyepuhlindapan dan haba yang memerlukan suhu wafer seragam

• Pemeriksaan, metrologi dan peringkat ketepatan di mana zarah rendah dan pengapit stabil adalah kritikal

3.Gred Bahan AlN – Sifat Biasa

VeTek menawarkan berbilang gred Aluminium Nitride untuk mengimbangi kekonduksian terma, kekuatan mekanikal dan kos untuk reka bentuk ESC:

Unit: Kekonduksian terma dalam W/(m·K); kekuatan dielektrik dalam kV/mm; kerintangan isipadu dalam Ω·cm (25 °C); pemalar dielektrik pada 1 MHz. Nilai adalah tipikal dan mungkin berbeza mengikut proses dan geometri bahagian.

4.Parameter Reka Bentuk ESC biasa

5.Kenapa Choose VeTek AlN Elektrostatik Chucks?

VeTek Semiconductor menyepadukan seramik AlN termaju dengan pembuatan ESC ketepatan untuk pelanggan semikonduktor yang memerlukan kedua-dua prestasi terma dan pengapit yang boleh dipercayai:

• Berbilang gred AlN dengan kekonduksian terma daripada ~90 hingga ~180 W/m·K untuk memadankan belanjawan terma proses

• Reka bentuk elektrod dan dielektrik fleksibel untuk kelakuan pengapit Coulomb atau JR

• Kawalan ketat kerataan, struktur mikro permukaan dan prestasi penebat elektrik

• Sokongan kitaran hayat penuh: reka bentuk, binaan baharu dan pengubahsuaian berbilang peringkat

Untuk alat goresan, pemendapan dan haba yang bergantung pada suhu wafer seragam dan pengapit yang bersih dan boleh diulang, VeTek Aluminium Nitride Ceramic Electrostatic Chucks menyediakan platform seramik berprestasi tinggi yang disokong oleh sokongan kejuruteraan berfokuskan aplikasi.