Berita

Peralatan pengukuran apa yang terdapat di kilang fab? - Vetek Semiconductor

Terdapat banyak jenis peralatan pengukuran di kilang Fab. Berikut adalah beberapa peralatan biasa:


Peralatan pengukuran proses fotolitografi


photolithography process measurement equipment


• Peralatan pengukuran ketepatan penjajaran mesin fotolitografi: seperti sistem pengukuran penjajaran ASML, yang dapat memastikan superposisi yang tepat dari corak lapisan yang berbeza.


• Instrumen Pengukuran Ketebalan Photoresist: Termasuk ellipsometers, dan lain -lain, yang mengira ketebalan photoresist berdasarkan ciri -ciri polarisasi cahaya.


• peralatan pengesanan ADIT dan AEI: Mengesan kesan perkembangan photoresist dan kualiti corak selepas fotolitografi, seperti peralatan pengesanan yang berkaitan dengan optoelektronik VIP.


Peralatan pengukuran proses etsa


Etching process measurement equipment


• Peralatan pengukuran kedalaman etsa: seperti interferometer cahaya putih, yang dapat mengukur sedikit perubahan sedikit dalam kedalaman etsa.


• Etching alat pengukuran profil: Menggunakan rasuk elektron atau teknologi pengimejan optik untuk mengukur maklumat profil seperti sudut dinding sampingan corak selepas etsa.


• CD-SEM: Boleh mengukur saiz mikrostruktur seperti transistor.


Peralatan pengukuran proses pemendapan filem nipis


Thin film deposition process


• Instrumen mengukur ketebalan filem: Reflectometers optik, refleksi X-ray, dan lain-lain, boleh mengukur ketebalan pelbagai filem yang disimpan di permukaan wafer.


• Peralatan mengukur tekanan filem: Dengan mengukur tekanan yang dihasilkan oleh filem di permukaan wafer, kualiti filem dan kesannya yang berpotensi terhadap prestasi wafer dinilai.


Peralatan mengukur proses doping


Semiconductor Device Manufacturing Process


• Peralatan mengukur dos implan ion: Tentukan dos implantasi ion dengan memantau parameter seperti intensiti rasuk semasa implantasi ion atau melakukan ujian elektrik pada wafer selepas implantasi.


• Peralatan pengukur kepekatan dan pengedaran doping: Sebagai contoh, spektrometer jisim ion sekunder (SIMS) dan penyebaran probe rintangan (SRP) dapat mengukur kepekatan dan pengedaran unsur -unsur doping dalam wafer.


Peralatan Mengukur Proses CMP


Chemical Mechanical Planarization Semiconductor Processing


• Peralatan mengukur kebosanan pasca-penggilap: Gunakan profilometer optik dan peralatan lain untuk mengukur kebosanan permukaan wafer selepas menggilap.

• Peralatan pengukur penyingkiran penggilap: Tentukan jumlah bahan yang dikeluarkan semasa menggilap dengan mengukur kedalaman atau ketebalan perubahan tanda pada permukaan wafer sebelum dan selepas penggilap.



Peralatan pengesanan zarah wafer


wafer particle detection equipment


• KLA SP 1/2/3/5/7 dan peralatan lain: secara berkesan dapat mengesan pencemaran zarah pada permukaan wafer.


• Siri Tornado: Peralatan siri tornado optoelektronik VIP dapat mengesan kecacatan seperti zarah pada wafer, menghasilkan peta kecacatan, dan maklum balas kepada proses yang berkaitan untuk pelarasan.


• Alfa-X Peralatan Pemeriksaan Visual Pintar: Melalui sistem kawalan imej CCD-AI, gunakan penggantian dan teknologi penderiaan visual untuk membezakan imej wafer dan mengesan kecacatan seperti zarah pada permukaan wafer.



Peralatan pengukur lain


• Mikroskop optik: Digunakan untuk memerhatikan mikrostruktur dan kecacatan pada permukaan wafer.


• Mengimbas Mikroskop Elektron (SEM): boleh memberikan imej resolusi yang lebih tinggi untuk memerhatikan morfologi mikroskopik permukaan wafer.


• Mikroskop daya atom (AFM): boleh mengukur maklumat seperti kekasaran permukaan wafer.


• Ellipsometer: Selain mengukur ketebalan photoresist, ia juga boleh digunakan untuk mengukur parameter seperti ketebalan dan indeks biasan filem nipis.


• Penguji empat-probe: Digunakan untuk mengukur parameter prestasi elektrik seperti resistiviti wafer.


• Diffractometer X-ray (XRD): boleh menganalisis struktur kristal dan tekanan keadaan bahan wafer.


• Spektrometer fotoelektron X-ray (XPS): Digunakan untuk menganalisis komposisi unsur dan keadaan kimia permukaan wafer.


X-ray photoelectron spectrometer (XPS)


• Mikroskop rasuk ion fokus (FIB): boleh melakukan pemprosesan dan analisis mikro-nano pada wafer.


• Peralatan makro adi: seperti mesin bulatan, digunakan untuk pengesanan makro kecacatan corak selepas litografi.


• Peralatan pengesanan kecacatan topeng: Mengesan kecacatan pada topeng untuk memastikan ketepatan corak litografi.


• Mikroskop elektron penghantaran (TEM): boleh memerhatikan mikrostruktur dan kecacatan di dalam wafer.


• Sensor Wafer Pengukuran Suhu Tanpa Wayar: Sesuai untuk pelbagai peralatan proses, mengukur ketepatan suhu dan keseragaman.


Berita Berkaitan
X
We use cookies to offer you a better browsing experience, analyze site traffic and personalize content. By using this site, you agree to our use of cookies. Privacy Policy
Reject Accept