Berita

Peralatan pengukuran apa yang terdapat di kilang fab? - Vetek Semiconductor

Terdapat banyak jenis peralatan pengukuran di kilang Fab. Berikut adalah beberapa peralatan biasa:


Peralatan pengukuran proses fotolitografi


photolithography process measurement equipment


• Peralatan pengukuran ketepatan penjajaran mesin fotolitografi: seperti sistem pengukuran penjajaran ASML, yang dapat memastikan superposisi yang tepat dari corak lapisan yang berbeza.


• Instrumen Pengukuran Ketebalan Photoresist: Termasuk ellipsometers, dan lain -lain, yang mengira ketebalan photoresist berdasarkan ciri -ciri polarisasi cahaya.


• peralatan pengesanan ADIT dan AEI: Mengesan kesan perkembangan photoresist dan kualiti corak selepas fotolitografi, seperti peralatan pengesanan yang berkaitan dengan optoelektronik VIP.


Peralatan pengukuran proses etsa


Etching process measurement equipment


• Peralatan pengukuran kedalaman etsa: seperti interferometer cahaya putih, yang dapat mengukur sedikit perubahan sedikit dalam kedalaman etsa.


• Etching alat pengukuran profil: Menggunakan rasuk elektron atau teknologi pengimejan optik untuk mengukur maklumat profil seperti sudut dinding sampingan corak selepas etsa.


• CD-SEM: Boleh mengukur saiz mikrostruktur seperti transistor.


Peralatan pengukuran proses pemendapan filem nipis


Thin film deposition process


• Instrumen mengukur ketebalan filem: Reflectometers optik, refleksi X-ray, dan lain-lain, boleh mengukur ketebalan pelbagai filem yang disimpan di permukaan wafer.


• Peralatan mengukur tekanan filem: Dengan mengukur tekanan yang dihasilkan oleh filem di permukaan wafer, kualiti filem dan kesannya yang berpotensi terhadap prestasi wafer dinilai.


Peralatan mengukur proses doping


Semiconductor Device Manufacturing Process


• Peralatan mengukur dos implan ion: Tentukan dos implantasi ion dengan memantau parameter seperti intensiti rasuk semasa implantasi ion atau melakukan ujian elektrik pada wafer selepas implantasi.


• Peralatan pengukur kepekatan dan pengedaran doping: Sebagai contoh, spektrometer jisim ion sekunder (SIMS) dan penyebaran probe rintangan (SRP) dapat mengukur kepekatan dan pengedaran unsur -unsur doping dalam wafer.


Peralatan Mengukur Proses CMP


Chemical Mechanical Planarization Semiconductor Processing


• Peralatan mengukur kebosanan pasca-penggilap: Gunakan profilometer optik dan peralatan lain untuk mengukur kebosanan permukaan wafer selepas menggilap.

• Peralatan pengukur penyingkiran penggilap: Tentukan jumlah bahan yang dikeluarkan semasa menggilap dengan mengukur kedalaman atau ketebalan perubahan tanda pada permukaan wafer sebelum dan selepas penggilap.



Peralatan pengesanan zarah wafer


wafer particle detection equipment


• KLA SP 1/2/3/5/7 dan peralatan lain: secara berkesan dapat mengesan pencemaran zarah pada permukaan wafer.


• Siri Tornado: Peralatan siri tornado optoelektronik VIP dapat mengesan kecacatan seperti zarah pada wafer, menghasilkan peta kecacatan, dan maklum balas kepada proses yang berkaitan untuk pelarasan.


• Alfa-X Peralatan Pemeriksaan Visual Pintar: Melalui sistem kawalan imej CCD-AI, gunakan penggantian dan teknologi penderiaan visual untuk membezakan imej wafer dan mengesan kecacatan seperti zarah pada permukaan wafer.



Peralatan pengukur lain


• Mikroskop optik: Digunakan untuk memerhatikan mikrostruktur dan kecacatan pada permukaan wafer.


• Mengimbas Mikroskop Elektron (SEM): boleh memberikan imej resolusi yang lebih tinggi untuk memerhatikan morfologi mikroskopik permukaan wafer.


• Mikroskop daya atom (AFM): boleh mengukur maklumat seperti kekasaran permukaan wafer.


• Ellipsometer: Selain mengukur ketebalan photoresist, ia juga boleh digunakan untuk mengukur parameter seperti ketebalan dan indeks biasan filem nipis.


• Penguji empat-probe: Digunakan untuk mengukur parameter prestasi elektrik seperti resistiviti wafer.


• Diffractometer X-ray (XRD): boleh menganalisis struktur kristal dan tekanan keadaan bahan wafer.


• Spektrometer fotoelektron X-ray (XPS): Digunakan untuk menganalisis komposisi unsur dan keadaan kimia permukaan wafer.


X-ray photoelectron spectrometer (XPS)


• Mikroskop rasuk ion fokus (FIB): boleh melakukan pemprosesan dan analisis mikro-nano pada wafer.


• Peralatan makro adi: seperti mesin bulatan, digunakan untuk pengesanan makro kecacatan corak selepas litografi.


• Peralatan pengesanan kecacatan topeng: Mengesan kecacatan pada topeng untuk memastikan ketepatan corak litografi.


• Mikroskop elektron penghantaran (TEM): boleh memerhatikan mikrostruktur dan kecacatan di dalam wafer.


• Sensor Wafer Pengukuran Suhu Tanpa Wayar: Sesuai untuk pelbagai peralatan proses, mengukur ketepatan suhu dan keseragaman.


Berita Berkaitan
Tinggalkan saya mesej
X
Kami menggunakan kuki untuk menawarkan anda pengalaman menyemak imbas yang lebih baik, menganalisis trafik tapak dan memperibadikan kandungan. Dengan menggunakan tapak ini, anda bersetuju dengan penggunaan kuki kami. Dasar Privasi
Tolak Terima