Permohonan komponen kuarza dalam peralatan semikonduktor

Produk kuarzadigunakan secara meluas dalam proses pembuatan semikonduktor kerana kesucian tinggi, rintangan suhu tinggi, dan kestabilan kimia yang kuat.

1. Quartz crucible

Permohonan - Ia digunakan untuk melukis rod silikon monocrystalline dan merupakan inti yang boleh digunakan dalam pembuatan wafer silikon.

Kuarza cruciblesdiperbuat daripada pasir kuarza kemelut tinggi (gred 4N8 dan ke atas) untuk mengurangkan pencemaran oleh kekotoran logam. Ia sepatutnya mempunyai kestabilan suhu tinggi (titik lebur> 1700 ° C) dan pekali pengembangan haba yang rendah. Kuarza crucibles dalam bidang semikonduktor terutamanya digunakan untuk pembuatan kristal tunggal silikon. Mereka adalah bekas kuarza yang boleh digunakan untuk memuatkan bahan mentah silikon polikristalin dan boleh dibahagikan kepada jenis persegi dan bulat. Square yang digunakan untuk pemutus jongkong silikon polikristalin, manakala yang bulat digunakan untuk lukisan batang silikon monocrystalline. Ia dapat menahan suhu yang tinggi dan mengekalkan kestabilan kimia, memastikan kesucian dan kualiti kristal tunggal silikon.

2. Tiub relau kuarza

Tiub kuarzadigunakan secara meluas dalam industri semikonduktor kerana ciri-ciri mereka seperti rintangan suhu tinggi (suhu operasi jangka panjang boleh mencapai lebih dari 1100 ° C), rintangan kakisan kimia (stabil kecuali beberapa reagen seperti asid hidrofluorik), Senario teras tertumpu dalam pelbagai proses proses utama pembuatan wafer.

Pautan Permohonan Utama:penyebaran, pengoksidaan, CVD (pemendapan wap kimia)

Tujuan:

• Tiub penyebaran: Digunakan dalam proses penyebaran suhu tinggi, ia membawa wafer silikon untuk doping.
• Tiub relau: Menyokong bot kuarza dalam relau pengoksidaan untuk rawatan pengoksidaan suhu tinggi.

Ciri -ciri ：

Ia mesti memenuhi keperluan kesucian tinggi (ion logam ≤1ppm) dan rintangan ubah bentuk suhu tinggi (di atas 1200 ° C).

3. Bot kristal kuarza

Bergantung pada peralatan yang berbeza, ia dibahagikan kepada jenis menegak dan mendatar. Bergantung pada garis pengeluaran Fab yang berbeza, julat saiz adalah 4 hingga 12 inci. Dalam pembuatan ICS semikonduktor,Bot kristal kuarzaterutamanya digunakan dalam proses pemindahan wafer, pembersihan dan pemprosesan. Sebagai pembawa wafer tahan lama dan tinggi suhu tinggi, mereka memainkan peranan yang sangat diperlukan. Dalam proses penyebaran atau pengoksidaan tiub relau, pelbagai wafer diletakkan pada bot kristal kuarza dan kemudian ditolak ke dalam tiub relau untuk pembuatan batch.

Penyuntik dalam semikonduktor digunakan terutamanya untuk mengangkut bahan gas atau cecair dengan tepat dan digunakan dalam pelbagai pautan proses utama seperti pemendapan filem nipis, etsa, dan doping.

Dalam proses pembersihan transistor silikon dan pengeluaran litar bersepadu, ia digunakan untuk membawa wafer silikon dan perlu asid dan tahan alkali untuk memastikan wafer silikon tidak tercemar semasa proses pembersihan.

6. bebibir kuarza, cincin kuarza, cincin fokus, dll

Ia digunakan dalam proses etsa semikonduktor, digabungkan dengan produk kuarza lain untuk mencapai perlindungan tertutup rongga, yang rapat dengan wafer, menghalang pelbagai jenis pencemaran semasa proses pembuatan etsa, dan memainkan peranan perlindungan.

Kuarza kuarzaadalah komponen utama yang biasa digunakan dalam industri semikonduktor, yang menampilkan rintangan suhu tinggi, rintangan kakisan, dan transmisi cahaya yang tinggi. Popolysilicon Reduction Relau Cover: Perlindungan loceng kuarza digunakan terutamanya sebagai penutup relau pengurangan untuk polysilicon. Dalam pengeluaran polysilicon, trichlorosilane kemuliaan tinggi dicampur dengan hidrogen dalam perkadaran tertentu dan kemudian diperkenalkan ke dalam relau pengurangan yang dilengkapi dengan penutup loceng kuarza, di mana tindak balas pengurangan berlaku pada teras silikon konduktif untuk mendepositkan dan membentuk polysilicon.

8. Tangki pembersih basah kuarza

Peringkat Permohonan: Pembersihan basah wafer silikon

Penggunaan: Ia digunakan untuk mencuci asid (HF, H₂SO₄, dan lain -lain) dan pembersihan ultrasonik.

Ciri -ciri: Kestabilan kimia yang kuat dan rintangan terhadap kakisan asid yang kuat.

9. Botol Koleksi Cecair Quartz

Botol pengumpulan cecair terutamanya digunakan untuk mengumpul cecair sisa atau cecair sisa dalam proses pembersihan basah

Semasa proses pembersihan basah wafer (seperti pembersihan RCA, pembersihan SC1/SC2), sejumlah besar air ultrapure atau reagen diperlukan untuk membilas wafer, dan selepas membilas, cecair sisa yang mengandungi kekotoran jejak akan dihasilkan. Selepas beberapa proses salutan (seperti salutan photoresist), terdapat juga cecair yang berlebihan (seperti cecair sisa photoresist) yang perlu dikumpulkan.

Fungsi botol pengumpulan cecair kuarza digunakan untuk mengumpul cecair sisa atau sisa ini, terutamanya dalam "langkah pembersihan ketepatan tinggi" (seperti tahap pra-rawatan permukaan wafer), di mana cecair sisa masih boleh mengandungi sedikit reagen bernilai tinggi atau kekotoran yang memerlukan analisis berikutnya. Pencemaran botol kuarza yang rendah dapat menghalang cecair sisa daripada tercemar semula, memudahkan pemulihan berikutnya (seperti penyucian reagen) atau pengesanan yang tepat (seperti analisis kandungan kekotoran dalam cecair sisa).

Di samping itu, topeng kuarza yang diperbuat daripada bahan kuarza sintetik digunakan dalam fotolitografi sebagai "negatif" mesin fotolitografi untuk pemindahan corak. Dan pengayun kristal kuarza yang digunakan dalam pemendapan filem nipis (PVD, CVD, ALD) untuk memantau ketebalan filem nipis dan memastikan keseragaman pemendapan, di antara banyak aspek lain, tidak diterangkan dalam artikel ini.

Kesimpulannya, produk kuarza hampir hadir sepanjang proses pembuatan semikonduktor, dari pertumbuhan silikon monocrystalline (kuarza crucibles) kepada fotolitografi (topeng kuarza), etsa (cincin kuarza), dan pemendapan filem nipis (oscillators kuarza yang sangat baik) Dengan evolusi proses semikonduktor, keperluan untuk kesucian, rintangan suhu dan ketepatan dimensi bahan kuarza akan dipertingkatkan lagi.