SIC Coating ALD Susceptor

Ia semikonduktorSIC Coating ALD Susceptormemainkan peranan penting dalam pemendapan lapisan atom (Ald) proses. Kawalan suhu yang tepat, pengedaran gas seragam, rintangan kimia yang tinggi dan kekonduksian terma yang sangat baik memastikan keseragaman dan kualiti proses pemendapan filem yang tinggi. Jika anda ingin mengetahui lebih lanjut, anda boleh berunding dengan kami dengan segera dan kami akan membalas anda tepat pada waktunya!

Kawalan suhu yang tepat:

SIC Coating ALD Susceptor biasanya mempunyai sistem kawalan suhu ketepatan tinggi. Ia dapat mengekalkan persekitaran suhu seragam sepanjang proses pemendapan, yang penting untuk memastikan keseragaman dan kualiti filem.

Pengagihan gas seragam:

Reka bentuk yang dioptimumkan SIC Coating ALD Susceptor memastikan pengagihan seragam gas semasa proses pemendapan ALD. Strukturnya biasanya termasuk pelbagai bahagian berputar atau bergerak untuk menggalakkan liputan seragam gas reaktif di seluruh permukaan wafer.

Rintangan kimia yang tinggi:

Oleh kerana proses ALD melibatkan pelbagai gas kimia, SIC Coating ALD Susceptor biasanya diperbuat daripada bahan tahan kakisan (seperti platinum, seramik atau kuarza kemelut tinggi) untuk menentang hakisan gas kimia dan pengaruh persekitaran suhu tinggi.

Kekonduksian terma yang sangat baik:

Untuk mengendalikan haba dengan berkesan dan mengekalkan suhu pemendapan yang stabil, SIC Coating ALD Susceptors biasanya menggunakan bahan kekonduksian terma yang tinggi. Ini membantu mengelakkan pemanasan terlalu panas dan pemendapan yang tidak sekata.

Sifat fizikal asas salutan CVD sic:

Kedai Pengeluaran:

Gambaran Keseluruhan Rangkaian Industri Epitaxy Chip Semikonduktor：