Pemegang wafer bersalut sic

VPemegang wafer bersalut SIC Etek semikonduktor biasanya digunakan untuk memperbaiki dan menyokong wafer semasa pemprosesan semikonduktor. Ia adalah prestasi tinggiPembawa waferdigunakan secara meluas dalam pembuatan semikonduktor. Dengan melapisi lapisan karbida silikon (sic) di permukaansubstrat, Produk ini dapat menghalang substrat dari kakisan, dan meningkatkan ketahanan kakisan dan kekuatan mekanikal pembawa wafer, memastikan keperluan kestabilan dan ketepatan proses pemprosesan.

Pemegang wafer bersalut sicbiasanya digunakan untuk membetulkan dan menyokong wafer semasa pemprosesan semikonduktor. Ia adalah pembawa wafer berprestasi tinggi yang digunakan secara meluas dalam pembuatan semikonduktor. Dengan melapisi lapisankarbida silikon (sic)Di permukaan substrat, produk ini dapat menghalang substrat dari kakisan, dan meningkatkan rintangan kakisan dan kekuatan mekanikal dariPembawa wafer, memastikan keperluan kestabilan dan ketepatan proses pemprosesan.

Silicon Carbide (SIC) mempunyai titik lebur kira -kira 2,730 ° C dan mempunyai kekonduksian terma yang sangat baik kira -kira 120 - 180 w/m · k. Harta ini dengan cepat dapat menghilangkan haba dalam proses suhu tinggi dan mencegah terlalu panas antara wafer dan pembawa. Oleh itu, pemegang wafer bersalut SIC biasanya menggunakan grafit bersalut silikon karbida (sic) sebagai substrat.

Digabungkan dengan kekerasan SIC (kekerasan Vickers yang sangat tinggi kira -kira 2,500 hv), salutan silikon karbida (sic) yang disimpan oleh proses CVD boleh membentuk salutan pelindung yang padat dan kuat, yang sangat meningkatkan rintangan haus pemegang wafer yang bersalut SIC.

Pemegang wafer bersalut SIC Vetek Semiconductor diperbuat daripada grafit bersalut SIC dan merupakan komponen utama yang sangat diperlukan dalam proses epitaxy semikonduktor moden. Ia dengan bijak menggabungkan kekonduksian terma grafit yang sangat baik (kekonduksian terma adalah kira-kira 100-400 w/m · k pada suhu bilik) dan kekuatan mekanikal, dan rintangan kakisan kimia yang sangat baik dan kestabilan haba karbida silikon (titik lebur SIC adalah kira-kira 2,730 ° C)

Pemegang reka bentuk tunggal-single ini dapat mengawalnya dengan tepatproses epitaxialParameter, yang membantu menghasilkan peranti semikonduktor berkualiti tinggi, berprestasi tinggi. Reka bentuk strukturnya yang unik memastikan bahawa wafer dikendalikan dengan yang paling penjagaan dan ketepatan sepanjang proses keseluruhan, dengan itu memastikan kualiti yang sangat baik dari lapisan epitaxial dan meningkatkan prestasi produk semikonduktor akhir.

Sebagai yang terkemuka di ChinaSic bersalutPengilang dan pemimpin pemegang wafer, Vetek Semiconductor boleh menyediakan produk dan perkhidmatan teknikal yang disesuaikan mengikut keperluan peralatan dan proses anda.Kami sangat berharap dapat menjadi rakan kongsi jangka panjang anda di China.

Data SEM struktur kristal filem CVD sic

Sifat fizikal asas salutan CVD sic

Vetek Semiconductor SIC Wafer Holder Holder Productions Shops: