Cincin Gores Kuarza Ketulenan Tinggi

1.Ciri Utama & Kelebihan

• Kuarza lebur dehidroksilasi gred semikonduktor dengan SiO₂ ≥ 99.999% dan kekotoran logam dikawal ketat

• Operasi berterusan yang stabil sehingga 1100 °C, dengan keupayaan jangka pendek berhampiran 1200 °C

• Rintangan kuat terhadap kimia etsa berasaskan fluorin dan klorin serta pendedahan plasma tenaga tinggi

• Pengembangan haba yang rendah dan prestasi kejutan haba yang baik di bawah kitaran suhu ruang berulang

• Gas keluar vakum yang rendah untuk melindungi tekanan dasar ruang dan memproses komposisi gas

• Kawalan dimensi peringkat mikron dengan permukaan sentuhan yang digilap untuk kesesuaian ruang yang konsisten dan definisi sempadan plasma

• Reka bentuk boleh dikonfigurasikan: gelang rata, gelang gores berperingkat, gelang pengesan/penahan dan profil tersuai sepenuhnya untuk platform alat goresan utama

2.Aplikasi Biasa

Cincin Goresan Kuarza Ketulenan Tinggi digunakan dalam ruang proses goresan plasma kering untuk:

• Langkah-langkah goresan plasma peranti logik dan memori

• Proses goresan peranti kuasa SiC dan GaN

• Goresan struktur nisbah aspek tinggi

• Pemprosesan plasma substrat optik dan semikonduktor kompaun

• Etch plasma pembungkusan lanjutan dan langkah pembersihan yang berkaitan

• Makmal RIE / ICP dan alat etch pengeluaran

3.Parameter Teknikal Utama

• Bahan: kuarza bercantum dehidroksilasi gred semikonduktor, SiO₂ ≥ 99.999%

• Keserasian wafer: 2 / 4 / 6 / 8 / 12 inci silikon, SiC, GaN dan nilam

• Suhu operasi: −20 °C hingga 1100 °C berterusan; puncak jangka pendek kira-kira 1200 °C

• Fungsi utama: kurungan tepi plasma, panduan aliran gas, perlindungan tepi, dan pengasingan ruang

• Kualiti pemesinan: toleransi tahap mikron, permukaan digilap, tepi terkawal dan kemasan bersih

• Pilihan struktur: gelang rata, gelang gores berperingkat, gelang pengesan/penahan dan geometri tersuai

• Penyesuaian: diameter luar/dalaman, ketebalan, ketinggian langkah, ciri pengesanan, chamfer dan butiran antara muka setiap lukisan

4.Mengapa Memilih Cincin Gores Kuarza Ketulenan Tinggi VeTek?

VeTek Semiconductor membekalkan perkakasan kuarza kritikal proses untuk alat etch dan terma. Untuk cincin etch, tumpuan adalah pada:

• Ketulenan bahan dan kebersihan permukaan sesuai untuk persekitaran kering-etch lanjutan

• Ketepatan dimensi yang menyokong kawalan sempadan plasma yang stabil dan kesesuaian ruang yang boleh diulang

• Fleksibiliti reka bentuk untuk penggantian gaya OEM dan antara muka ruang tersuai sepenuhnya

• Rangkaian komponen kuarza lengkap yang turut termasuk pembawa wafer, tiub relau, bot dan bahagian proses yang berkaitan

Dengan menggabungkan ketulenan tinggi, ketahanan plasma dan kawalan geometri yang ketat, Gelang Gores Kuarza Ketulenan Tinggi VeTek membantu meningkatkan keseragaman goresan wafer, mengurangkan kecacatan berkaitan tepi dan menyokong kitaran pengeluaran yang lebih lama dan lebih stabil dalam alatan goresan plasma kering.