Ald bersatu kuarza

VeTek Semiconductor ALD Fused Quartz Pedestal memainkan peranan penting dalam proses pembuatan semikonduktor sebagai struktur sokongan untukbot kuarza, yang digunakan untuk memegangwafer. Fused Quartz Pedestal membantu mencapai pemendapan filem seragam dengan mengekalkan suhu yang stabil, yang secara langsung mempengaruhi prestasi dan kebolehpercayaan peranti semikonduktor. Selain itu, Quartz Pedestal memastikan pengagihan seragam haba dan cahaya dalam ruang proses, dengan itu meningkatkan kualiti keseluruhan proses pemendapan.

Kelebihan bahan kuarza ald bersatu

Rintangan Suhu Tinggi: Titik pelembutan alas kuarza bersatu setinggi kira -kira 1730 ° C, dan ia dapat menahan operasi suhu tinggi 1100 ° C hingga 1250 ° C untuk masa yang lama, dan boleh didedahkan kepada persekitaran suhu yang melampau sehingga 1450 ° C untuk masa yang singkat.

Rintangan kakisan yang sangat baik: Kuarza bercantum sangat lengai secara kimia kepada hampir semua asid kecuali asid hidrofluorik. Rintangan asidnya adalah 30 kali lebih tinggi daripada seramik dan 150 kali lebih tinggi daripada keluli tahan karat. Kuarza bercantum secara kimia tidak dapat ditandingi pada suhu tinggi, menjadikannya bahan yang ideal untuk proses kimia yang kompleks.

Kestabilan terma: Ciri utama bahan Pedestal Kuarza Bercantum ialah pekali pengembangan terma yang sangat rendah. Ini bermakna ia boleh mengendalikan turun naik suhu dramatik dengan mudah tanpa retak. Contohnya, kuarza silika bercantum boleh dipanaskan dengan cepat hingga 1100°C dan direndam terus dalam air sejuk tanpa kerosakan, satu ciri penting dalam keadaan pembuatan tekanan tinggi.

Proses pembuatan yang ketat: Proses pengeluaran alas silika bercantum dengan ketat mematuhi piawaian kualiti tinggi. Proses pengeluaran menggunakan proses pembentukan dan kimpalan panas, yang biasanya diselesaikan dalam persekitaran bilik bersih kelas 10,000. Selepas itu, alas kaca kuarza bercantum dibersihkan dengan air ultratulen (18 MΩ) untuk memastikan ketulenan produk dan prestasi optimum. Setiap produk siap diperiksa, dibersihkan dan dibungkus dengan teliti dalam bilik bersih kelas 1,000 atau lebih tinggi untuk memenuhi piawaian tinggi industri semikonduktor.

Bahan kuarza silika lega yang tinggi

Veteksemi ald fused kuarza menggunakan bahan kuarza legap yang tinggi untuk mengasingkan haba dan cahaya dengan berkesan. Sifat pelindung haba yang sangat baik dan sifat perisai cahaya membolehkannya mengekalkan pengagihan suhu seragam dalam ruang proses, memastikan keseragaman dan konsistensi nipispemendapan filempada permukaan wafer.

Medan permohonan

Kawasan kuarza yang digunakan secara meluas digunakan dalam banyak bidang industri semikonduktor kerana prestasi cemerlang mereka. Dalamproses pemendapan lapisan atom (ALD)., ia menyokong kawalan tepat terhadap pertumbuhan filem dan memastikan kemajuan peranti semikonduktor. Dalamproses pemendapan wap kimia tekanan rendah (LPCVD)., kestabilan terma dan keupayaan melindungi cahaya bagi Pedestal kuarza ketulenan tinggi memberikan jaminan untuk pemendapan seragam filem nipis, dengan itu meningkatkan prestasi dan hasil peranti.

Di samping itu, dalam proses wafer penyebaran, rintangan suhu tinggi dan rintangan kakisan kimia kekaki kuarza yang bersatu memastikan kebolehpercayaan dan konsistensi proses doping bahan semikonduktor. Proses utama ini menentukan prestasi elektrik peranti semikonduktor, dan bahan kuarza berkualiti tinggi memainkan peranan yang sangat diperlukan dalam mencapai hasil terbaik proses ini.

Kedai VeTek Semiconductor ALD Fused Quartz Pedestal: