Proses pemendapan wap kimia cincin tepi pepejal

Proses CVD Pepejal SIC Edge Ring:

● Bahan: Cincin fokus dibuat dari pepejal SIC, kesucian tinggi dan bahan seramik berprestasi tinggi. Ia disediakan oleh pemendapan wap kimia. Bahan SIC pepejal memberikan ketahanan yang luar biasa, rintangan suhu tinggi, dan sifat mekanik yang sangat baik.

●  Kelebihan: Cincin CVD SIC menawarkan kestabilan terma yang luar biasa, mengekalkan integriti strukturnya walaupun di bawah keadaan suhu tinggi yang dihadapi dalam proses etch kering. Kekerasannya yang tinggi memastikan ketahanan terhadap tekanan mekanikal dan haus, yang membawa kepada hayat perkhidmatan yang dilanjutkan. Selain itu, SIC pepejal mempamerkan keterangkuman kimia, melindunginya dari kakisan dan mengekalkan prestasinya dari masa ke masa.

Salutan CVD SIC:

●  Bahan: Salutan CVD SIC adalah pemendapan filem nipis SIC menggunakan teknik pemendapan wap kimia (CVD). Lapisan digunakan pada bahan substrat, seperti grafit atau silikon, untuk menyediakan sifat -sifat SIC ke permukaan.

●  Perbandingan: Walaupun salutan CVD SIC menawarkan beberapa kelebihan, seperti pemendapan conformal pada bentuk kompleks dan sifat filem yang boleh disesuaikan, mereka mungkin tidak sepadan dengan kekukuhan dan prestasi pepejal. Ketebalan salutan, struktur kristal, dan kekasaran permukaan boleh berbeza -beza berdasarkan parameter proses CVD, yang berpotensi memberi kesan kepada ketahanan dan prestasi keseluruhan salutan.

Ringkasnya, cincin fokus pepejal vetek semikonduktor adalah pilihan yang luar biasa untuk aplikasi etch kering. Bahan SIC yang padat memastikan rintangan suhu tinggi, kekerasan yang sangat baik, dan ketidakmampuan kimia, menjadikannya penyelesaian yang boleh dipercayai dan tahan lama. Walaupun salutan CVD SIC menawarkan fleksibiliti dalam pemendapan, cincin CVD SIC cemerlang dalam menyediakan ketahanan dan prestasi yang tidak dapat ditandingi untuk menuntut proses etch kering.

Sifat fizikal sic pepejal