Cincin fokus sic sic pepejal

Vetek Semiconductor telah membuat kemajuan yang besar dalam teknologi SIC pepejal CVD dan kini dapat menghasilkan cincin fokus sol pepejal dengan tahap terkemuka di dunia. Vetek Semiconductor's Sic Etching Focusing Ring adalah produk bahan silikon karbida silikon ultra tinggi yang dibuat melalui proses pemendapan wap kimia.

Cincin fokus pepejal pepejal digunakan dalam proses pembuatan semikonduktor, terutamanya dalam sistem etsa plasma. Cincin fokus SIC adalah komponen penting yang membantu mencapai etsa silikon karbida (sic) yang tepat dan terkawal.

Semasa proses etsa plasma, cincin fokus memainkan pelbagai peranan adalah seperti berikut:

● Memfokuskan plasma: Gelang fokus goresan SiC pepejal membantu membentuk dan menumpukan plasma di sekeliling wafer, memastikan proses goresan berlaku secara seragam dan cekap. Ia membantu mengehadkan plasma ke kawasan yang dikehendaki, mencegah goresan sesat atau kerosakan pada kawasan sekitar.

●  Melindungi dinding ruang: Cincin pemfokusan bertindak sebagai penghalang antara plasma dan dinding ruang, menghalang sentuhan langsung dan kemungkinan kerosakan. SiC sangat tahan terhadap hakisan plasma dan memberikan perlindungan yang sangat baik untuk dinding ruang.

●  Tkawalan suhu: SiC Focus Ring membantu dalam mengekalkan pengagihan suhu seragam di seluruh wafer semasa proses etsa. Ia membantu menghilangkan haba dan menghalang kecerunan terlalu panas atau gredan terma yang boleh menjejaskan hasil etsa.

SiC pepejal dipilih untuk cincin pemfokusan kerana kestabilan terma dan kimianya yang luar biasa, kekuatan mekanikal yang tinggi dan ketahanan terhadap hakisan plasma. Sifat-sifat ini menjadikan SiC sebagai bahan yang sesuai untuk keadaan yang keras dan menuntut di dalam sistem etsa plasma.

Perlu diingat bahawa reka bentuk dan spesifikasi cincin fokus boleh berbeza -beza bergantung kepada sistem etsa plasma tertentu dan keperluan proses. Semikonduktor Vetek mengoptimumkan bentuk, dimensi, dan ciri -ciri permukaan cincin fokus untuk memastikan prestasi etsa yang optimum dan panjang umur. SIC pepejal digunakan secara meluas untuk pembawa wafer, susceptor, wafer dummy, cincin panduan, bahagian untuk proses etsa, proses CVD, dll.