Pembawa RTP RTA grafit bersalut CVD Silicon Carbide (SiC).

Ciri-ciri Produk

· Peralatan Teras:Direka untuk sistem Rapid Thermal Annealing (RTA) dan Rapid Thermal Processing (RTP).

· Primary Application: Dioptimumkan untuk proses penyepuhlindapan wafer semikonduktor.

· Opepenilaian Tesuhu:Operasi stabil dari 200°C hingga 700°C.

· Excellent TherKeseragaman mal: Memastikan pengagihan haba sekata untuk pemprosesan wafer yang konsisten.

· Zarah RendahGpenjanaan: Salutan SiC CVD padat meminimumkan pencemaran dan meningkatkan hasil pengeluaran.

· Rintangan Kimia Unggul:Tahan kepada pengoksidaan dan gas proses menghakis semasa pemprosesan haba.

· Luar biasag Termaal Ketahanan Kejutan: Mengekalkan integriti struktur melalui kitaran pemanasan dan penyejukan pantas berulang.

· Hayat Perkhidmatan Panjang:Salutan SiC tahan haus memanjangkan hayat komponen dengan ketara dan mengurangkan kos penyelenggaraan.

· AdatPembuatan:Tersedia dalam pelbagai saiz dan konfigurasi untuk memadankan peralatan RTP/RTA yang berbeza.

Spesifikasi Teknikal

Aplikasi

·Penyepuhlindapan Terma Pantas (RTA)

· Pemprosesan Terma Pantas (RTP)

· Penyepuhlindapan Wafer Silikon

· Pengaktifan Dopan

· Pengoksidaan

· Penyebaran

·Pembuatan Semikonduktor Kompaun

·Pembuatan MEMS

·Pemprosesan Semikonduktor Kuasa

Soalan Lazim

1. Apakah itu Pembawa RTP/RTA?

Pembawa RTP/RTA ialah komponen sokongan wafer yang digunakan di dalam pemprosesan terma pantas dan sistem penyepuhlindapan terma pantas. Ia memegang wafer semikonduktor dengan selamat sambil menyediakan pemindahan haba seragam sepanjang kitaran haba.

2. Mengapa salutan CVD SiC diutamakan?

Berbanding dengan grafit kosong, salutan CVD SiC menawarkan rintangan pengoksidaan yang unggul, penjanaan zarah yang lebih rendah, kestabilan kimia yang lebih baik, dan hayat perkhidmatan yang jauh lebih lama.

3. Bolehkah VETEK menyediakan pembawa RTP/RTA yang disesuaikan?

ya. VETEK menawarkan pembawa RTP/RTA tersuai berdasarkan lukisan pelanggan.