Skirt Bersalut SiC CVD

Vetek Semiconductor adalah pengeluar profesional untuk skirt bersalut CVD SIC di China.

Teknologi epitaksi ultraungu dalam peralatan Aixtron memainkan peranan penting dalam pembuatan semikonduktor. Teknologi ini menggunakan sumber cahaya ultraungu yang mendalam untuk mendepositkan pelbagai bahan pada permukaan wafer melalui pertumbuhan epitaxial untuk mencapai kawalan yang tepat terhadap prestasi dan fungsi wafer. Teknologi epitaksi ultraungu yang mendalam digunakan dalam pelbagai aplikasi, meliputi pengeluaran pelbagai peranti elektronik daripada led kepada laser semikonduktor.

Dalam proses ini, skirt bersalut CVD SiC memainkan peranan penting. Ia direka bentuk untuk menyokong lembaran epitaxial dan memacu lembaran epitaxial untuk berputar untuk memastikan keseragaman dan kestabilan semasa pertumbuhan epitaxial. Dengan mengawal kelajuan putaran dan arah susceptor grafit dengan tepat, proses pertumbuhan pembawa epitaxial boleh dikawal dengan tepat.

Produk ini diperbuat daripada salutan grafit berkualiti tinggi dan silikon karbida, memastikan prestasi cemerlang dan hayat perkhidmatan yang panjang. Bahan grafit yang diimport memastikan kestabilan dan kebolehpercayaan produk, supaya ia dapat berfungsi dengan baik dalam pelbagai persekitaran kerja. Dari segi salutan, bahan karbida silikon kurang daripada 5ppm digunakan untuk memastikan keseragaman dan kestabilan salutan. Pada masa yang sama, proses baru dan pekali pengembangan terma bahan grafit membentuk perlawanan yang baik, meningkatkan rintangan suhu tinggi produk dan rintangan kejutan haba, supaya ia masih dapat mengekalkan prestasi yang stabil dalam persekitaran suhu tinggi.

Sifat fizikal asas skirt bersalut CVD sic:

Vetek Semiconductor CVD SIC Skirt Produk Skirt:

Gambaran keseluruhan rantaian industri epitaksi cip semikonduktor: