Grafit berliang lanjutan

Grafit berliang maju, seperti namanya, adalah sejenis grafit yang mengandungi lompang atau liang yang saling berkaitan dalam strukturnya. Saiz liang -liang ini boleh berbeza -beza, yang mempengaruhi ciri -ciri prestasi bahan.

Ciri -ciri grafit berliang lanjutan

● Kawasan permukaan yang besar dan kapasiti penjerapan yang kuat: 

Salah satu kelebihan grafit berliang yang paling luar biasa adalah kawasan permukaannya yang lebih besar berbanding dengan grafit bukan berliang, yang menjadikannya sangat penyerap.

●  Kekonduksian terma dan elektrik yang sangat baik: 

Grafit berpori mempunyai kekonduksian terma dan elektrik yang sangat baik. Harta ini amat penting dalam aplikasi yang memerlukan pelesapan haba atau kekonduksian elektrik.

●  Kekuatan mekanikal yang sangat baik: 

Kekuatan mekanikal grafit berliang berkaitan dengan struktur liang dan proses pembuatannya. Kekuatan mekanikal grafit berliang tidak begitu baik sebagai grafit yang tidak berliang, tetapi sifat mekanikalnya masih sangat baik.

●  Kekurangan kimia: 

Sebagai produk grafit, grafit berliang secara kimia tidak aktif dan boleh berfungsi dalam persekitaran yang menghakis. Kekurangan kimia membantu grafit berliang digunakan dalam proses kimia yang memerlukan ketahanan terhadap asid, pangkalan, dan pelarut.

●  Pembuatan dan kebolehcapaian yang tinggi: 

Struktur liang grafit berliang boleh disesuaikan dengan banyak cara. Teknik seperti pemendapan wap kimia boleh digunakan untuk mencapai saiz liang dan pengedaran yang dikehendaki oleh pelanggan.

Aplikasi grafit berliang lanjutan

●  Pertumbuhan kristal sic：

Kajian telah menunjukkan bahawa dalam pertumbuhan kristal SIC, penerapan grafit berliang membantu mengurangkan bilangan microtubules dan kecacatan lain, dan mengurangkan kandungan unsur -unsur kekotoran dalam kristal, jadi grafit berliang dapat membawa bantuan besar dalam pengeluaran kristal SIC.

●  Fabrikasi wafer: 

Oleh kerana kekonduksian terma yang sangat baik dan rintangan kakisannya, grafit berliang boleh digunakan untuk mengeluarkan pembawa wafer seperti bot grafit dan chuck grafit. Grafit berliang dapat berfungsi dengan stabil dalam persekitaran suhu tinggi, membantu wafer untuk mengekalkan pengagihan suhu seragam, dengan itu memastikan ketepatan pemprosesan.

●  Pemendapan Wap Kimia (CVD) : 

Grafit berliang tahan terhadap suhu tinggi dan tidak aktif secara kimia, jadi ia sering digunakan sebagai pelapik reaktor dan bahan elektrod sebagai sebahagian daripada proses CVD untuk menggalakkan pemendapan filem berkualiti tinggi.

●  Pecah haba peranti semikonduktor: 

Kekonduksian terma yang sangat baik dari grafit berliang menjadikannya pilihan yang ideal untuk penyelesaian pelesapan haba dalam peranti semikonduktor. Ia boleh dijadikan tenggelam haba atau bahan antara muka haba untuk membantu pelesapan haba yang cepat dan meningkatkan kecekapan kerja dan kehidupan peranti.

●  Proses etsa dan etsa: 

Dalam proses etsa kering pembuatan semikonduktor, grafit berliang boleh digunakan sebagai bahan elektrod atau bahan katod, dan rintangan kakisannya dan kekonduksian elektrik membantu ia menahan hakisan plasma menghakis, memastikan kestabilan dan ketepatan proses etching.

●  Aplikasi kesucian yang tinggi: 

Grafit berliang ditapis untuk memenuhi keperluan ketat industri semikonduktor untuk kesucian material dan mengurangkan kesan kekotoran