Cincin bersalut karbida Tantalum

Vetek Semikonduktor Tantalum Carbide Coated Ring dibuat darigrafitdan disalut dengan Tantalum Carbide, gabungan yang memanfaatkan sifat terbaik kedua -dua bahan untuk memastikan prestasi dan panjang umur yang unggul. 

Lapisan TAC pada cincin salutan karbida tantalum memastikan bahawa ia kekal secara kimia dalam atmosfera reaktif relau pertumbuhan kristal SIC, yang sering melibatkan gas seperti hidrogen, argon, dan nitrogen. Kekurangan kimia ini adalah penting untuk mencegah pencemaran kristal yang semakin meningkat, yang boleh menyebabkan kecacatan dan mengurangkan prestasi produk semikonduktor akhir. Di samping itu, kestabilan terma yang disediakan oleh salutan TAC membolehkan cincin salutan karbida Tantalum untuk beroperasi dengan berkesan pada suhu tinggi yang diperlukan untuk pertumbuhan kristal SIC, biasanya melebihi 2000 ° C.

Lapisan TAC yang padat dan seragam boleh disediakan pada permukaan grafit oleh penyemburan plasma, kaedah CVD dan kaedah sintering buburan, tetapi kaedah penyembur plasma mempunyai keperluan peralatan yang tinggi dan pembentukan TA2C. Adalah sukar untuk menyediakan salutan komposit dengan kaedah sintering buburan, dan rintangan kejutan haba salutan adalah miskin. Lapisan yang disediakan oleh kaedah CVD mempunyai komposisi yang dapat dikawal dan ketumpatan tertinggi, yang merupakan kaedah salutan karbida tantalum biasa pada masa ini.

Ciri -ciri mekanikal TAC sangat mengurangkan haus dan lusuh pada cincin salutan karbida Tantalum. Ini adalah penting kerana sifat berulang proses pertumbuhan kristal, yang mendedahkan cincin panduan kepada kitaran haba yang kerap dan tekanan mekanikal. Kekerasan dan ketahanan TAC memastikan bahawa cincin bersalut TAC mengekalkan integriti struktur dan dimensi yang tepat dalam tempoh yang panjang, meminimumkan keperluan untuk penggantian yang kerap dan mengurangkan downtime dalam proses pembuatan. 

Ketumpatan pukal salutan karbida tantalum adalah 14.3gm/cm3, emissivity 0.3, kekerasan adalah 2000HK, titik lebur adalah 3950s ℃, dan sifat fizikal yang baik telah dipilih sebagai bahan biasa untuk generasi semikonduktor ketiga.

Di samping itu, gabungan grafit dan TAC dalam cincin salutan karbida Tantalum mengoptimumkan pengurusan terma dalam relau pertumbuhan kristal. Kekonduksian terma tinggi grafit dengan cekap mengedarkan haba, mencegah titik panas dan mempromosikan pertumbuhan kristal seragam. Sementara itu, salutan TAC berfungsi sebagai penghalang terma, melindungi teras grafit dari pendedahan langsung kepada suhu tinggi dan gas reaktif. Sinergi ini antara bahan teras dan salutan menghasilkan cincin panduan yang bukan sahaja menahan keadaan kerasPertumbuhan kristal sictetapi juga meningkatkan kecekapan dan kualiti keseluruhan proses.

Vetek Semikonduktor Tantalum Carbide Cincin bersalut adalah komponen penting dalam industri semikonduktor, yang direka khusus untuk pertumbuhanSilicon Carbide Crystals. Reka bentuknya memanfaatkan kekuatan grafit dan karbida tantalum untuk memberikan prestasi yang luar biasa dalam persekitaran suhu tinggi, tekanan tinggi. Lapisan TAC memastikan ketahanan kimia, ketahanan mekanikal, dan kestabilan terma, semuanya penting untuk menghasilkan kristal SIC berkualiti tinggi. Dengan mengekalkan integriti dan fungsinya di bawah keadaan yang melampau, cincin menyokong pertumbuhan kristal SIC yang cekap dan cacat, menyumbang kepada kemajuan peranti semikonduktor kuasa tinggi dan tinggi.

Vetek Semiconductor adalah pengeluar dan pembekal terkemukaTantalum Carbide Coating, Salutan Silicon CarbidedanGrafit khasdi China. Kami telah lama komited untuk menyediakan penyelesaian teknologi dan produk canggih untuk industri semikonduktor, dan dengan penuh harapan untuk menjadi rakan kongsi jangka panjang anda di China.

Salutan Tantalum Carbide (TAC)pada keratan rentas mikroskopik：

Gambaran keseluruhanRantai Industri Epitaxy Chip Semikonduktor：