Susceptor Penyepuhlindapan Terma Pantas

VeTek Semiconductor Rapid Thermal Annealing Susceptor mempunyai kualiti tinggi dan jangka hayat yang panjang, dialu-alukan untuk menyiasat kami.

Anneal Thermal Rapid (RTA) adalah subset penting pemprosesan haba pesat yang digunakan dalam fabrikasi peranti semikonduktor. Ia melibatkan pemanasan wafer individu untuk mengubah suai sifat elektrik mereka melalui pelbagai rawatan haba yang disasarkan. Proses RTA membolehkan pengaktifan dopan, perubahan filem-ke-filem atau antara muka substrat filem-ke-wafer, penyebaran filem yang didepositkan, pengubahsuaian negara-negara filem yang ditanam, pembaikan kerosakan implan ion, pergerakan dopan, dan memandu dopan antara filem-filem antara filem atau ke dalam substrat wafer.

Produk semikonduktor Vetek, pemecatan penghapusan haba yang cepat, memainkan peranan penting dalam proses RTP. Ia dibina menggunakan bahan grafit kemelut tinggi dengan salutan pelindung karbida silikon lengai (sic). Substrat silikon bersalut SIC boleh menahan suhu sehingga 1100 ° C, memastikan prestasi yang boleh dipercayai walaupun di bawah keadaan yang melampau. Salutan SIC memberikan perlindungan yang sangat baik terhadap kebocoran gas dan penumpahan zarah, memastikan panjang umur produk.

Untuk mengekalkan kawalan suhu yang tepat, cip dikapsulkan di antara dua komponen grafit ketulenan tinggi yang disalut dengan SiC. Pengukuran suhu yang tepat boleh diperoleh melalui penderia suhu tinggi bersepadu atau termokopel yang bersentuhan dengan substrat.

Sifat Fizikal Asas Salutan CVD SIC:

Kedai Pengeluaran Semikonduktor VeTek：

Gambaran keseluruhan rantaian industri epitaxy cip semikonduktor: