Menu Web

Carian Produk

Bahasa

Berita

Berita

Kami berbesar hati untuk berkongsi dengan anda tentang hasil kerja kami, berita syarikat dan memberi anda perkembangan tepat pada masanya serta syarat pelantikan dan penyingkiran kakitangan.
Berita SyarikatBerita Industri
Relau epitaxial 8-inci dan penyelidikan proses homoepitaxial29 2024-08

Relau epitaxial 8-inci dan penyelidikan proses homoepitaxial

Relau epitaxial 8-inci dan penyelidikan proses homoepitaxial
Wafer substrat semikonduktor: Sifat bahan silikon, GaAs, SiC dan GaN28 2024-08

Wafer substrat semikonduktor: Sifat bahan silikon, GaAs, SiC dan GaN

Artikel ini menganalisis sifat bahan wafer substrat semikonduktor seperti silikon, GaAs, SiC dan GaN
Teknologi epitaxy suhu rendah berasaskan GAN27 2024-08

Teknologi epitaxy suhu rendah berasaskan GAN

Artikel ini terutamanya menggambarkan teknologi epitaxial suhu rendah berasaskan GAN, termasuk struktur kristal bahan berasaskan GAN, 3. Keperluan teknologi epitaxial dan penyelesaian pelaksanaan, kelebihan teknologi epitaxial suhu rendah berdasarkan prinsip PVD, dan prospek pembangunan teknologi epitaxial rendah.
Apakah perbezaan antara CVD TAC dan Sintered TAC?26 2024-08

Apakah perbezaan antara CVD TAC dan Sintered TAC?

Artikel ini mula -mula memperkenalkan struktur molekul dan sifat fizikal TAC, dan memberi tumpuan kepada perbezaan dan aplikasi sintered tantalum carbide dan CVD tantalum carbide, serta produk salutan TAC yang popular Vetek Semikonduktor.
X
We use cookies to offer you a better browsing experience, analyze site traffic and personalize content. By using this site, you agree to our use of cookies. Privacy Policy
Reject Accept