Cincin Panduan Salutan TAC

Fungsi cincin panduan salutan TAC:

Kawalan aliran gas yang tepat: TheCincin panduan salutan TACdiposisikan secara strategik dalam sistem suntikan gasReaktor MOCVD. Fungsi utamanya adalah untuk mengarahkan aliran gas prekursor dan memastikan pengedaran seragam mereka merentasi permukaan wafer substrat. Kawalan yang tepat ke atas dinamik aliran gas adalah penting untuk mencapai pertumbuhan lapisan epitaxial seragam dan sifat bahan yang dikehendaki.

Pengurusan Thermal: Panduan salutan TAC sering beroperasi pada suhu tinggi kerana berdekatan dengan pemotong dan substrat yang dipanaskan. Kekonduksian terma yang sangat baik TAC membantu menghilangkan haba dengan berkesan, mencegah terlalu panas dan mengekalkan profil suhu yang stabil di dalam zon reaksi.

Kelebihan TAC di MOCVD:

Rintangan suhu yang melampau: TAC menawarkan salah satu titik lebur tertinggi di antara semua bahan, melebihi 3800 ° C.

Kekurangan kimia yang luar biasa: TAC mempamerkan ketahanan yang luar biasa terhadap kakisan dan serangan kimia dari gas prekursor reaktif yang digunakan dalam MOCVD, seperti ammonia, silane, dan pelbagai sebatian logam-organik.

Sifat fizikalSalutan TAC:

Faedah untuk prestasi MOCVD:

Penggunaan Vetek Semiconductor TAC Coating Guide Ring dalam peralatan MOCVD menyumbang dengan ketara kepada:

Peningkatan peralatan uptime: Ketahanan dan jangka hayat lanjutan cincin Panduan Salutan TAC mengurangkan keperluan untuk penggantian yang kerap, meminimumkan downtime penyelenggaraan dan memaksimumkan kecekapan operasi sistem MOCVD.

Kestabilan proses yang dipertingkatkan: Kestabilan haba dan keterangkuman kimia TAC menyumbang kepada persekitaran tindak balas yang lebih stabil dan terkawal dalam ruang MOCVD, meminimumkan variasi proses dan meningkatkan kebolehulangan.

Keseragaman lapisan epitaxial yang lebih baik: Kawalan aliran gas yang tepat yang difasilitasi oleh cincin panduan salutan TAC memastikan pengedaran prekursor seragam, menghasilkan seragam yang sangat seragamPertumbuhan lapisan epitaxialdengan ketebalan dan komposisi yang konsisten.

Salutan Tantalum Carbide (TAC)pada keratan rentas mikroskopik: