PENGHASILAN MOCVD dengan salutan TAC

VeTek Semiconductor ialah pengeluar, pembekal dan pengeksport terkemuka China yang mengkhusus dalam MOCVD Susceptor denganSalutan TAC. Anda dialu-alukan untuk datang ke kilang kami untuk membeli jualan terkini, harga rendah, dan Susceptor MOCVD berkualiti tinggi dengan Salutan TaC. Kami berharap dapat bekerjasama dengan anda.

Epitaxy LED menghadapi cabaran seperti kawalan kualiti kristal, pemilihan bahan dan pencocokan, reka bentuk struktur dan pengoptimuman, kawalan proses dan konsistensi, dan kecekapan pengekstrakan cahaya. Memilih bahan pembawa wafer epitaxy yang betul adalah penting, dan salutannya dengan filem nipis Tantalum Carbide (TAC) (TAC Coating) memberikan kelebihan tambahan.

Apabila memilih bahan pembawa wafer epitaxy, beberapa faktor utama perlu dipertimbangkan:

● Toleransi suhu dan kestabilan kimia: Proses epitaxy LED melibatkan suhu tinggi dan mungkin melibatkan penggunaan bahan kimia. Oleh itu, adalah perlu untuk memilih bahan dengan toleransi suhu yang baik dan kestabilan kimia untuk memastikan kestabilan pembawa dalam persekitaran suhu tinggi dan kimia.

● Rintangan permukaan dan rintangan haus: Permukaan pembawa wafer epitaksi harus mempunyai kerataan yang baik untuk memastikan sentuhan seragam dan pertumbuhan wafer epitaksi yang stabil. Selain itu, rintangan haus adalah penting untuk mengelakkan kerosakan permukaan dan lelasan.

● Kekonduksian terma: Memilih bahan dengan kekonduksian terma yang baik membantu menghilangkan haba dengan berkesan, mengekalkan suhu pertumbuhan yang stabil untuk lapisan epitaksi dan meningkatkan kestabilan dan ketekalan proses.

Dalam hal ini, salutan pembawa wafer epitaxy dengan TAC menawarkan kelebihan berikut:

● Kestabilan suhu tinggi: Salutan TAC mempamerkan kestabilan suhu tinggi yang sangat baik, yang membolehkannya mengekalkan struktur dan prestasinya semasa proses epitaxy suhu tinggi dan memberikan toleransi suhu yang unggul.

● Kestabilan kimia: Salutan TaC tahan kakisan daripada bahan kimia dan atmosfera biasa, melindungi pembawa daripada degradasi kimia dan meningkatkan ketahanannya.

● Kekerasan dan Rintangan Pakai: Salutan TaC mempunyai kekerasan dan rintangan haus yang tinggi, menguatkan permukaan pembawa wafer epitaksi, mengurangkan kerosakan dan haus, dan memanjangkan jangka hayatnya.

● Kekonduksian terma: Salutan TAC menunjukkan kekonduksian terma yang baik, membantu pelesapan haba, mengekalkan suhu pertumbuhan yang stabil untuk lapisan epitaxy, dan meningkatkan kestabilan proses dan konsistensi.

Oleh itu, memilih pembawa wafer epitaxy dengan salutan TAC membantu menangani cabaran epitaxy yang diketuai, memenuhi keperluan persekitaran suhu tinggi dan kimia. Lapisan ini menawarkan kelebihan seperti kestabilan suhu tinggi, kestabilan kimia, kekerasan dan rintangan haus, dan kekonduksian terma, menyumbang kepada peningkatan prestasi, jangka hayat, dan kecekapan pengeluaran pembawa wafer epitaxy.