Pembawa Wafer Kuarza Ketulenan Tinggi

1. Ciri Utama & Kelebihan

• Kuarza bersatu dehidroksilasi ketulenan ultra tinggi (SiO₂ ≥ 99.999%) dengan kekotoran logam dikawal pada tahap ppb—meminimumkan pencemaran wafer

• Suhu operasi jangka panjang sehingga 1100 °C; rintangan puncak jangka pendek kepada 1200 °C

• Rintangan kejutan haba yang sangat baik dan kestabilan dimensi di bawah kitaran suhu yang kerap

• Kelalaian kimia yang kuat terhadap gas proses pengoksidaan dan bahan kimia proses basah biasa (HF, H₂O₂, asid/alkali)

• Permukaan tanah yang rata dan berketepatan tinggi dengan tepi bulat untuk sokongan wafer seragam dan kerosakan tepi yang dikurangkan

• Gas keluar vakum rendah dan penjerapan permukaan rendah—sesuai untuk proses vakum ketepatan

• Struktur boleh disesuaikan sepenuhnya: pembawa pepejal, reka bentuk berlubang/bolong, ciri pengesanan berperingkat, lubang kedudukan, sokongan berbilang titik dan reka bentuk anti-ubah bentuk yang menebal untuk wafer 2–12 inci

2. Aplikasi Biasa

Pembawa ini digunakan di mana-mana sahaja wafer memerlukan sokongan yang bersih dan stabil dari segi dimensi di bawah suhu tinggi atau kimia yang agresif:

• Pemuatan relau resapan dan penyepuhlindapan

• Sokongan proses pertumbuhan filem PECVD dan LPCVD

• Ruang vakum dan perkakas proses suhu tinggi

• Pengeringan pasca goresan dan pembawa stesen pembersihan basah

• Pemprosesan haba peranti kuasa SiC dan GaN

• Pengendalian substrat optoelektronik dan alat terma makmal

3. Parameter Teknikal Utama

• Bahan asas: kuarza bercantum dehidroksilasi gred semikonduktor, SiO₂ ≥ 99.999%

• Saiz wafer yang serasi: 2, 4, 6, 8, dan 12 inci (Si, SiC, GaN, nilam)

• Julat suhu berterusan yang disyorkan: −20 °C hingga 1100 °C; puncak jangka pendek sehingga kira-kira 1200 °C

• Laluan pembuatan: pembentukan sekeping, pengisaran permukaan ketepatan, pembulatan tepi, penyepuhlindapan pelepasan tekanan, dan pembersihan akhir ultra-bersih

• Konfigurasi yang tersedia: pepejal, bolong/berlubang, pengesanan berlangkah, bercorak lubang dan geometri tersuai sepenuhnya

• Fokus prestasi: ketulenan tinggi, kestabilan haba, rintangan kakisan, kerataan permukaan, gas keluar rendah dan pengekalan dimensi jangka panjang

• Skop penyesuaian: dimensi luar, ketebalan, geometri sokongan, reka letak lubang dan ciri khas berdasarkan lukisan pelanggan

4. Mengapa Memilih Pembawa Wafer Kuarza Ketulenan Tinggi VeTek?

Sebagai pengilang profesional komponen kuarza semikonduktor, VeTek Semiconductor menawarkan:

• Pembawa Wafer Kuarza Ketulenan Tinggi yang direka bentuk untuk persekitaran terma, vakum dan proses basah

• Kawalan ketulenan yang ketat, kerataan permukaan dan kebersihan yang sesuai untuk pengeluaran semikonduktor lanjutan

• Penyesuaian penuh dan reka bentuk serasi OEM untuk relau, ruang dan perkakas stesen proses

• Produk kuarza semikonduktor pelengkap termasuk tiub relau, bot wafer, mangkuk pijar dan komponen proses lain

Pembawa Wafer Kuarza Ketulenan Tinggi kami membantu mengekalkan sentuhan haba yang seragam, mengurangkan pencemaran zarah dan logam, dan memanjangkan hayat perkakas di bawah keadaan proses suhu tinggi dan menghakis yang berterusan—menyokong hasil yang lebih tinggi dan kos pemilikan yang lebih rendah dalam pembuatan semikonduktor.