Produk
Susceptor Grafit Bersalut CVD SiC untuk Pembawa Wafer
  • Susceptor Grafit Bersalut CVD SiC untuk Pembawa WaferSusceptor Grafit Bersalut CVD SiC untuk Pembawa Wafer

Susceptor Grafit Bersalut CVD SiC untuk Pembawa Wafer

VETEK CVD SiC Coated Graphite Susceptor untuk Pembawa Wafer ialah komponen sokongan wafer berprestasi tinggi yang direka untuk proses epitaksi semikonduktor. Produk ini menggunakan grafit ketulenan tinggi sebagai substrat dan disalut dengan lapisan silikon karbida (SiC) CVD seragam, memberikan kestabilan haba yang sangat baik, rintangan kimia dan kawalan zarah. Sebagai komponen suseptor grafit kritikal, ia secara langsung menyokong wafer di dalam ruang tindak balas dan membantu mengekalkan pengedaran suhu seragam dan keadaan pertumbuhan epitaxial yang stabil.

1. Kelebihan Produk


  • Bahan Ketulenan Tinggi:Bahan grafit gred semikonduktor dan struktur salutan SiC padat meminimumkan risiko pencemaran dan meningkatkan kebolehpercayaan susceptor grafit bersalut CVD SiC.
  • Keseragaman Terma Cemerlang:Struktur grafit yang dioptimumkan dan salutan SiC memberikan pemindahan haba yang stabil dan kawalan suhu wafer yang seragam.
  • Rintangan Kimia Unggul:Salutan SiC yang padat menawarkan rintangan yang kuat terhadap gas proses dan persekitaran yang menghakis.
  • Hayat Perkhidmatan Panjang:Kekerasan tinggi dan rintangan haus meningkatkan ketahanan dalam keadaan epitaksi suhu tinggi.
  • Penjanaan Zarah Rendah:Permukaan SiC CVD yang padat mengurangkan pelepasan zarah dan meningkatkan kebolehpercayaan proses wafer.
  • Keupayaan Reka Bentuk Tersuai:Tersedia dalam pelbagai saiz, struktur dan konfigurasi mengikut keperluan peralatan.



2. Spesifikasi Teknikal

item
Nilai Biasa
Bahan Substrat
Grafit Ketulenan Tinggi
Bahan Salutan
CVD Silicon Carbide (SiC)
Kesucian SiC
≥99.999%
Ketebalan Salutan
100 ± 20 μm (boleh disesuaikan)
Keseragaman Ketebalan Salutan
Dikawal dalam 10 μm antara kelompok
Ketumpatan Salutan SiC CVD
3.21 g/cm³
Kekonduksian Terma
300 W/m·K
Pekali Pengembangan Terma
4.5 × 10⁻⁶/K

3. Aplikasi


  • Proses Epitaksi SiC:Susceptor grafit digunakan sebagai pembawa wafer dalam peralatan epitaksi SiC, menyokong substrat SiC semasa pertumbuhan epitaxial suhu tinggi.
  • Proses Epitaksi Silikon:Digunakan dalam reaktor epitaxial silikon untuk menyokong wafer dan mengekalkan keadaan terma yang stabil.
  • Epitaksi MOCVD:Suseptor grafit VETEK sesuai untuk MOCVD, epitaksi LED, epitaksi GaN, epitaksi silikon, dan proses pembuatan semikonduktor lain yang memerlukan keseragaman haba dan kestabilan kimia yang sangat baik.
  • Peralatan Pembuatan Semikonduktor:Serasi dengan pelbagai platform epitaksi, termasuk relau mendatar LPE, Aixtron, NuFlare dan peralatan semikonduktor yang berkaitan.



4. Mengapa Memilih VETEK?

VETEK menyediakan penyelesaian susceptor grafit bersalut CVD SiC tersuai yang menyepadukan penulenan grafit, pemesinan ketepatan, salutan CVD dan keupayaan pemeriksaan. Produk susceptor grafit gred semikonduktor kami menampilkan ketulenan tinggi, ketebalan salutan seragam, prestasi terma yang cemerlang dan hayat perkhidmatan yang panjang untuk aplikasi pembawa wafer yang menuntut.

Teg Panas: Suseptor Grafit Bersalut CVD SiC, Suseptor Grafit, Pembawa Wafer Grafit Bersalut SiC, Suseptor Epitaksi Semikonduktor, Suseptor Grafit MOCVD, Pembawa Wafer SiC, Suseptor Grafit SiC CVD
Hantar Pertanyaan
Maklumat Hubungan
For inquiries about Silicon Carbide Coating, Tantalum Carbide Coating, Special Graphite or price list, please leave your email to us and we will be in touch within 24 hours.
X
Kami menggunakan kuki untuk menawarkan anda pengalaman menyemak imbas yang lebih baik, menganalisis trafik tapak dan memperibadikan kandungan. Dengan menggunakan tapak ini, anda bersetuju dengan penggunaan kuki kami. Dasar Privasi
TolakTerima