Penyokong Aixtron MOCVD

Susceptors yang dihasilkan olehSemikonduktor Vetekdiperbuat daripada substrat grafit dan bahan salutan karbida (sic). Memandangkan rintangan haus yang lebih tinggi, rintangan kakisan dan kekerasan bahan SIC yang sangat tinggi, ia amat sesuai untuk digunakan dalam persekitaran proses yang keras. Oleh itu, pemotong yang dihasilkan oleh Vetek Semiconductor boleh digunakan secara langsung dalam proses MOCVD suhu tinggi tanpa rawatan permukaan tambahan.

Suseptor adalah komponen utama dalam pembuatan semikonduktor, terutamanya dalam peralatan MOCVD untuk proses pemendapan filem nipis. Peranan utamaPenerima SiC AixtronDalam proses MOCVD adalah untuk membawa wafer semikonduktor, memastikan pemendapan seragam dan berkualiti tinggi filem nipis dengan menyediakan pengagihan haba dan persekitaran reaksi seragam, dengan itu mencapai pengeluaran filem nipis yang berkualiti tinggi.

Penyokong Aixtron MOCVDbiasanya digunakan untuk menyokong dan menetapkan asas wafer semikonduktor untuk memastikan kestabilan wafer semasa proses pemendapan. Pada masa yang sama, salutan permukaan Susceptor Aixtron MOCVD diperbuat daripada silikon karbida (sic), bahan konduktif yang sangat termal. Salutan SIC memastikan suhu seragam pada permukaan wafer, dan pemanasan seragam adalah penting untuk mendapatkan filem berkualiti tinggi.

Lebih-lebih lagi, yangPenyokong Aixtron MOCVDKami menghasilkan memainkan peranan yang lebih besar dalam mengawal aliran dan pengedaran gas reaktif melalui reka bentuk bahan yang dioptimumkan. Elakkan arus eddy dan kecerunan suhu untuk mencapai pemendapan filem seragam.

Lebih penting lagi, dalam proses MOCVD, bahan salutan silikon karbida (SiC) mempunyai rintangan kakisan, jadiSemikonduktor Vetek'sPenyokong Aixtron MOCVDjuga boleh menahan suhu tinggi dan gas yang menghakis.

Sifat fizikal asas bagiSalutan sic:

Kedai bot wafer semikonduktor vetek:

Gambaran keseluruhan rantaian industri epitaksi cip semikonduktor: