Plat pengedaran gas kuarza

Plat pengedaran gas kuarza, yang juga dikenali sebagai kuarza kuarsa, adalah komponen kritikal dalam fabrikasi semikonduktor. Memanfaatkan kesucian yang luar biasa, rintangan suhu tinggi, dan rintangan kakisan kuarza, plat ini memastikan aliran seragam dan stabil gas proses ke permukaan wafer. Penghantaran yang tepat ini adalah penting untuk mengekalkan kualiti dan keseragaman filem yang didepositkan atau ciri -ciri terukir.

Ciri-ciri utama kuarza yang bersatu kemurnian tinggi

● Bahan: 99.99%kuarza bersatu kemurnian tinggi

● Rintangan suhu tinggi: Menahan suhu melebihi 1000 ℃

● Rintangan kakisan: Ketahanan yang sangat baik terhadap gas proses dan persekitaran plasma

● Aliran gas ketepatan: Pengagihan lubang mikro seragam untuk penghantaran gas optimum dan keseragaman pemendapan

● Reka bentuk yang disesuaikan: Saiz, corak lubang, dan ciri pemasangan boleh disesuaikan untuk model peralatan tertentu

Peranan teras dalam pembuatan semikonduktor

1. Pemendapan wap fizikal (PVD) & pemendapan wap kimia (CVD)

Peranan: Dalam proses PVD dan CVD, plat pengedaran gas dengan tepat mengarahkan gas reaktif (mis., Silane, ammonia, oksigen) atau prekursor ke wafer untuk membentuk filem nipis yang dikehendaki.

Kegunaan khusus:

● Kawalan Keseragaman: Plat-lubang mikro yang direka bentuk dengan tepat memastikan bahawa aliran gas dan kepekatan seragam di seluruh permukaan wafer. Ini penting untuk mendepositkan filem dengan ketebalan dan prestasi yang konsisten.

● Pencegahan pencemaran: Kesucian kuarza yang tinggi menghalang plat daripada bertindak balas dengan gas proses atau melepaskan kekotoran. Ini mengekalkan kesucian filem dan menghalang kecacatan pada permukaan wafer.

2. Pemendapan wap kimia yang dipertingkatkan plasma (PECVD)

Peranan: Di PECVD, kuarza kuarza bukan sahaja menyampaikan gas reaktif tetapi juga berfungsi sebagai elektrod untuk penjanaan plasma.

Kegunaan khusus:

● Pencucuhan plasma: Pancuran mandi biasanya disambungkan ke sumber kuasa frekuensi radio (RF) untuk menghasilkan plasma. Zarah tenaga tinggi dalam plasma mempromosikan penguraian reaktan gas, yang membolehkan pemendapan filem pada suhu yang lebih rendah.

● Kestabilan terma: Kuarza mempamerkan kestabilan terma yang sangat baik, membolehkannya menahan persekitaran plasma suhu tinggi. Ini membantu mengekalkan suhu seragam dalam ruang proses, memastikan kualiti filem dan konsistensi.

3. Etching kering

Peranan: Dalam etsa kering, plat pengedaran gas memperkenalkan gas etsa reaktif (mis., Fluorokarbon, klorin) ke dalam ruang etch.

Kegunaan khusus:

● Keseragaman ETCH: Plat memastikan aliran seragam dan kepekatan gas etch, yang menjamin kedalaman dan profil etch yang konsisten di seluruh wafer. Ini adalah penting untuk mencapai corak yang tepat yang diperlukan untuk peranti semikonduktor lanjutan.

● Rintangan kakisan: Sifat -sifat menghakis yang kuat dari gas etch memerlukan bahan tahan lama. Rintangan kakisan yang tinggi kuarza memanjangkan jangka hayat mandi dan mengurangkan risiko gangguan proses.

4. Pembersihan wafer

Peranan: Dalam proses pembersihan wafer tertentu, plat pengedaran gas kuarza digunakan untuk menyampaikan gas pembersihan (mis., Ozon, ammonia) seragam ke permukaan wafer untuk menghilangkan sisa atau bahan cemar.

Kegunaan khusus:

● Pembersihan yang konsisten: Plat memastikan bahawa gas pembersihan mencapai setiap bahagian wafer, membolehkan proses pembersihan menyeluruh dan seragam.

● Keserasian kimia: Keserasian kuarza dengan pelbagai bahan kimia pembersihan menghalang reaksi dan mengekalkan kesucian dan keberkesanan proses pembersihan.