Artikel ini menerangkan parameter fizikal dan ciri -ciri produk grafit poros Vetek semikonduktor, serta aplikasi khususnya dalam pemprosesan semikonduktor.
Pemendapan filem nipis adalah penting dalam pembuatan cip, mewujudkan peranti mikro dengan mendepositkan filem di bawah 1 mikron tebal melalui CVD, ALD, atau PVD. Proses -proses ini membina komponen semikonduktor melalui filem konduktif dan penebat yang berselang -seli.
Proses pembuatan semikonduktor melibatkan lapan langkah: pemprosesan wafer, pengoksidaan, litografi, etsa, pemendapan filem nipis, interkoneksi, ujian, dan pembungkusan. Silikon dari pasir diproses ke dalam wafer, teroksida, bercorak, dan terukir untuk litar ketepatan tinggi.
We use cookies to offer you a better browsing experience, analyze site traffic and personalize content. By using this site, you agree to our use of cookies.
Privacy Policy