Berita

Veteksemicon bersinar di Pameran Antarabangsa Shanghai SEMICON 2025, menerajui masa depan industri semikonduktor dengan teknologi inovatif

Dalam industri pembuatan semikonduktor, kerana saiz peranti terus mengecut, teknologi pemendapan bahan -bahan filem nipis telah menimbulkan cabaran yang belum pernah terjadi sebelumnya. Pemendapan lapisan atom (ALD), sebagai teknologi pemendapan filem nipis yang dapat mencapai kawalan yang tepat pada tahap atom, telah menjadi sebahagian daripada pembuatan semikonduktor. Artikel ini bertujuan untuk memperkenalkan aliran proses dan prinsip -prinsip ALD untuk membantu memahami peranan pentingnya dalam pembuatan cip lanjutan.

Adalah sesuai untuk membina litar bersepadu atau peranti semikonduktor pada lapisan asas kristal yang sempurna. Proses Epitaxy (EPI) dalam pembuatan semikonduktor bertujuan untuk mendepositkan lapisan tunggal kristal tunggal, biasanya kira-kira 0.5 hingga 20 mikron, pada substrat satu kristal. Proses epitaxy merupakan langkah penting dalam pembuatan peranti semikonduktor, terutamanya dalam pembuatan wafer silikon.