Artikel ini menerangkan parameter fizikal dan ciri -ciri produk grafit poros Vetek semikonduktor, serta aplikasi khususnya dalam pemprosesan semikonduktor.
Pemendapan filem nipis adalah penting dalam pembuatan cip, mewujudkan peranti mikro dengan mendepositkan filem di bawah 1 mikron tebal melalui CVD, ALD, atau PVD. Proses -proses ini membina komponen semikonduktor melalui filem konduktif dan penebat yang berselang -seli.
Kami menggunakan kuki untuk menawarkan anda pengalaman menyemak imbas yang lebih baik, menganalisis trafik tapak dan memperibadikan kandungan. Dengan menggunakan tapak ini, anda bersetuju dengan penggunaan kuki kami.Dasar Privasi